发明授权
摘要:
本发明涉及一种平面上激光熔覆工艺参数优化的方法,包括如下步骤:S1、以激光功率、扫描速度、送粉速度作为待优化参数,按照田口方法设计正交实验,以熔宽、熔高、稀释率作为响应目标进行方差分析;S2、利用灰色关联分析方法对三个响应目标分析后得到最终的最优参数组合;S3、将最终的最优参数组合下的熔覆层轮廓拟合成函数并建立几何模型,计算分析后得到搭接率的最优值;S4、进行多道多层熔覆实验,经计算分析后得到Z轴提升量的最优值。本发明的平面上激光熔覆工艺参数优化的方法能够方便、快速准确、可靠地得到使用不同熔覆粉末和/或激光熔覆设备在平面上进行激光熔覆实验时,在单道、单道多层以及多道多层熔覆工艺中的最优参数。
公开/授权文献
- CN108559995A 一种平面上激光熔覆工艺参数优化的方法 公开/授权日:2018-09-21
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