发明授权
- 专利标题: 氧氮化物薄膜及电容元件
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申请号: CN201810293209.X申请日: 2018-03-30
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公开(公告)号: CN108695063B公开(公告)日: 2020-05-08
- 发明人: 芝原豪 , 永峰佑起 , 山﨑久美子
- 申请人: TDK株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: TDK株式会社
- 当前专利权人: TDK株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京尚诚知识产权代理有限公司
- 代理商 杨琦
- 优先权: 2017-071128 2017.03.31 JP
- 主分类号: H01G4/08
- IPC分类号: H01G4/08 ; H01G4/33 ; C04B35/495 ; C04B35/622
摘要:
本发明提供一种制造效率高、介电特性优异的具有由氧氮化物构成的主组成的电介质薄膜及包含其的电容元件。所述电介质薄膜其特征在于,该电介质薄膜具有由以组成式AaBbOoNn(a+b+o+n=5)表示的氧氮化物构成的主组成,所述A为Sr、Ba、Ca、La、Ce、Pr、Nd、Na的任意一种以上,所述B为Ta、Nb、Ti、W的任意一种以上,构成所述电介质薄膜的晶粒为未向某特定的晶面方向取向的多晶,而且由柱状的颗粒构成。
公开/授权文献
- CN108695063A 氧氮化物薄膜及电容元件 公开/授权日:2018-10-23