发明公开
- 专利标题: 自由电子激光器
- 专利标题(英): FREE ELECTRON LASER
-
申请号: CN201680082519.6申请日: 2016-11-29
-
公开(公告)号: CN108701953A公开(公告)日: 2018-10-23
- 发明人: P·W·斯摩奥伦堡 , J·A·G·阿克曼斯
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 张启程
- 优先权: 15202244.8 20151223 EP
- 国际申请: PCT/EP2016/079114 2016.11.29
- 国际公布: WO2017/108348 EN 2017.06.29
- 进入国家日期: 2018-08-23
- 主分类号: H01S3/09
- IPC分类号: H01S3/09 ; H05H9/00 ; G03F7/00
摘要:
一种自由电子激光器FEL包括波荡器24,产生相干EUV辐射,接收上游电子束EB2并发射下游电子束EB4,和至少电子源21a、21b,能够操作以产生上游电子束EB1、EB2,上游电子束EB1、EB2包括电子聚束。束路径配置为:引导上游电子束通过包括至少第一和第二线性加速器22a、22b的直线加速器系统(LINAC)、聚束压缩器28b和波荡器24。离开所述波荡器24的下游束以一相位与上游电子束平行地再循环通过第二直线加速器22b,使得下游束被所述直线加速器22b减速,随后以一相位与上游电子束平行地再循环通过第一直线加速器22a,使得下游束被第一线性加速器22a减速;以及,引导下游束至束收集器100。至少第一能量散布装置50a、50b、50c对电子聚束的能量分布赋予可逆变化,并且在束路径中位于聚束压缩器28之前的位置,使得它仅通过上游电子束EB1。第二能量散布装置50d反转由至少一个第一能量散布装置50a、50b、50c施加的电子聚束的能量分布的变化,第二散布装置50d在束路径中位于波荡器24之前的位置,使得它仅通过上游电子束EB2。
公开/授权文献
- CN108701953B 自由电子激光器 公开/授权日:2020-08-25