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公开(公告)号：CN117501175A
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202280042038.8
申请日：2022-05-20
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G02F1/35
摘要： 一种用于接收泵浦辐射以在相互作用空间处与气体介质相互作用以产生发射辐射的组件。所述组件包括：物件，所述物件具有中空芯部，其中，所述中空芯部具有穿过所述物件的细长体积，其中，所述相互作用空间位于所述中空芯部内部；和导热结构，所述导热结构连接在所述物件的外壁的多个部位处以用于将在所述相互作用空间处所产生的热转移远离所述物件。
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公开(公告)号：CN115793401A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211226584.5
申请日：2018-02-15
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 公开了适合于高谐波产生(HHG)辐射源的气体输送系统，所述高谐波产生辐射源可以用于产生用于检查设备的测量辐射。在这样的辐射源中，气体输送元件在第一方向上输送气体。所述气体输送元件具有光学输入和光学输出，限定了在第二方向上延伸的光学路径。所述第一方向相对于所述第二方向以不垂直且不平行的角度来布置。也公开了一种具有气体射流成形装置的气体输送元件，或一对气体输送元件，其中的一个输送第二气体，使得所述气体射流成形装置或第二气体可操作以修改所述气体的流轮廓使得所述气体的数量密度急剧降低。
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公开(公告)号：CN117452772A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202311287828.5
申请日：2019-04-23
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·欧德威尔 , P·W·斯摩奥伦堡 , G·J·H·布鲁斯阿德
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/09 , G02F1/35 , H01S3/00 , G02F1/01 , G02B5/00 , H05G2/00 , G03F9/00 , G01N21/88 , G01N21/956 , G01N21/47 , G01B11/02
摘要： 一种照射源设备(500)，所述照射源设备适合用于量测设备中以表征衬底上的结构，所述照射源设备包括：高次谐波产生HHG介质(502)；泵浦辐射源(506)，能够操作为发射泵浦辐射束(508)；和可调整的变换光学器件(510)，所述可调整的变换光学器件被配置为可调整地变换所述泵浦辐射束的横向空间轮廓以产生被变换的束(518)，使得相对于所述被变换的束的中心轴线，所述被变换的束的中心区具有实质上为零的强度，而从所述被变换的束的所述中心轴线径向向外的外部区具有非零的强度，其中所述被变换的束被布置为激励所述HHG介质以产生高次谐波辐射(540)，其中所述外部区的部位依赖于所述可调整的变换光学器件的调整设定。
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公开(公告)号：CN116171374A
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202180053302.3
申请日：2021-08-16
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 拉尔斯·洛特格林 , 斯特凡·米歇尔·维特 , C·L·波特 , P·W·斯摩奥伦堡
IPC分类号： G01J1/42
摘要： 披露了一种用于测量辐射的波前的波前传感器。所述波前传感器包括掩模，所述掩模包括位于所述辐射的路径中以便与所述辐射相互作用的图案。照射于所述掩模上的所述辐射在位于所述掩模之后的辐射检测器上形成辐射检测图案，并且所述掩模的所述图案是至少部分地基于所述辐射检测图案的要求而被设计的。
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公开(公告)号：CN114631055A
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202080076314.3
申请日：2020-10-15
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·W·斯摩奥伦堡
摘要： 披露了一种产生高次谐波辐射的高次谐波辐射源和相关联的方法。所述高次谐波辐射源被配置成通过利用辐射的预脉冲照射所述气体介质来调节所述气体介质，由此产生包括预脉冲等离子体分布的等离子体；以及利用辐射的主脉冲来照射所述气体介质以产生所述高次谐波辐射。所述调节步骤使得包括预脉冲等离子体分布的所述等离子体用于配置所述主脉冲的波前以改善以下各项中的一种或两者：所述高次谐波产生过程的效率，和所述高次谐波辐射的束品质。所述高次谐波辐射源还可以包括束整形装置，所述束整形装置被配置成在所述调节之前对所述定制化预脉冲进行整形。
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公开(公告)号：CN110462521B
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN201880018587.5
申请日：2018-02-15
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/84 , G01N21/956 , G02F1/35 , H01S3/00
摘要： 公开了适合于高谐波产生(HHG)辐射源的气体输送系统，所述高谐波产生辐射源可以用于产生用于检查设备的测量辐射。在这样的辐射源中，气体输送元件在第一方向上输送气体。所述气体输送元件具有光学输入和光学输出，限定了在第二方向上延伸的光学路径。所述第一方向相对于所述第二方向以不垂直且不平行的角度来布置。也公开了一种具有气体射流成形装置的气体输送元件，或一对气体输送元件，其中的一个输送第二气体，使得所述气体射流成形装置或第二气体可操作以修改所述气体的流轮廓使得所述气体的数量密度急剧降低。
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公开(公告)号：CN112586089A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN201980054729.8
申请日：2019-07-10
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·W·斯摩奥伦堡 , G·J·H·布鲁斯阿德 , D·欧德威尔
IPC分类号： H05G2/00
摘要： 本发明涉及方法和相应设备，其能够操作为引起驱动辐射束与介质之间的相互作用以通过高阶谐波产生来产生发射辐射，所述装置包括：相互作用区，所述相互作用区被定位在相互作用平面且被配置成接收所述介质；束阻挡件，所述束阻挡件在所述相互作用平面的上游被定位在束阻挡平面处且被配置成部分地阻挡所述驱动辐射束；束成形器，所述束成形器在所述束阻挡平面的上游被定位在物平面处且被配置成控制所述驱动辐射束的空间分布；以及至少一个透镜，所述至少一个透镜被定位在所述相互作用平面的上游和所述束阻挡平面的下游，其中所述透镜被定位成使得所述驱动辐射束的所述空间分布的图像形成在所述相互作用平面处。
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公开(公告)号：CN108701953B
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN201680082519.6
申请日：2016-11-29
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·W·斯摩奥伦堡 , J·A·G·阿克曼斯
摘要： 一种自由电子激光器FEL包括波荡器24，产生相干EUV辐射，接收上游电子束EB2并发射下游电子束EB4，和至少电子源21a、21b，能够操作以产生上游电子束EB1、EB2，上游电子束EB1、EB2包括电子聚束。束路径配置为：引导上游电子束通过包括至少第一和第二线性加速器22a、22b的直线加速器系统(LINAC)、聚束压缩器28b和波荡器24。离开所述波荡器24的下游束以一相位与上游电子束平行地再循环通过第二直线加速器22b，使得下游束被所述直线加速器22b减速，随后以一相位与上游电子束平行地再循环通过第一直线加速器22a，使得下游束被第一线性加速器22a减速；以及，引导下游束至束收集器100。至少第一能量散布装置50a、50b、50c对电子聚束的能量分布赋予可逆变化，并且在束路径中位于聚束压缩器28之前的位置，使得它仅通过上游电子束EB1。第二能量散布装置50d反转由至少一个第一能量散布装置50a、50b、50c施加的电子聚束的能量分布的变化，第二散布装置50d在束路径中位于波荡器24之前的位置，使得它仅通过上游电子束EB2。
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公开(公告)号：CN108701953A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680082519.6
申请日：2016-11-29
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·W·斯摩奥伦堡 , J·A·G·阿克曼斯
摘要： 一种自由电子激光器FEL包括波荡器24，产生相干EUV辐射，接收上游电子束EB2并发射下游电子束EB4，和至少电子源21a、21b，能够操作以产生上游电子束EB1、EB2，上游电子束EB1、EB2包括电子聚束。束路径配置为：引导上游电子束通过包括至少第一和第二线性加速器22a、22b的直线加速器系统(LINAC)、聚束压缩器28b和波荡器24。离开所述波荡器24的下游束以一相位与上游电子束平行地再循环通过第二直线加速器22b，使得下游束被所述直线加速器22b减速，随后以一相位与上游电子束平行地再循环通过第一直线加速器22a，使得下游束被第一线性加速器22a减速；以及，引导下游束至束收集器100。至少第一能量散布装置50a、50b、50c对电子聚束的能量分布赋予可逆变化，并且在束路径中位于聚束压缩器28之前的位置，使得它仅通过上游电子束EB1。第二能量散布装置50d反转由至少一个第一能量散布装置50a、50b、50c施加的电子聚束的能量分布的变化，第二散布装置50d在束路径中位于波荡器24之前的位置，使得它仅通过上游电子束EB2。
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