- 专利标题: 切割芯片接合片、半导体芯片的制造方法及半导体装置的制造方法
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申请号: CN201780015580.3申请日: 2017-02-24
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公开(公告)号: CN108713241A公开(公告)日: 2018-10-26
- 发明人: 铃木英明 , 土山彩香 , 佐藤明德 , 仲秋夏树
- 申请人: 琳得科株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 琳得科株式会社
- 当前专利权人: 琳得科株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 王利波
- 优先权: 2016-046904 2016.03.10 JP
- 国际申请: PCT/JP2017/007103 2017.02.24
- 国际公布: WO2017/154619 JA 2017.09.14
- 进入国家日期: 2018-09-06
- 主分类号: H01L21/301
- IPC分类号: H01L21/301 ; H01L21/683 ; C09J7/20
摘要:
本发明提供一种切割芯片接合片(101),其在基材(11)上具备粘合剂层(12)、且在粘合剂层(12)上具备膜状粘接剂(13)而成,粘合剂层(12)的厚度为20μm~50μm,粘合剂层(12)的断裂伸长率为5%~50%。一种半导体芯片(9)的制造方法,该方法通过在该切割芯片接合片(101)的膜状粘接剂(13)的第1面(13a)上形成设置半导体晶片而成的中间结构体,使用切割刀在所述中间结构体上形成从所述半导体晶片的表面到达粘合剂层(12)但不到达基材(11)的切口(10),由此分割所述半导体晶片。
公开/授权文献
- CN108713241B 切割芯片接合片、半导体芯片的制造方法及半导体装置的制造方法 公开/授权日:2023-04-11
IPC分类: