发明公开
CN108754429A 一种蒸发源
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种蒸发源
- 专利标题(英): Evaporation source
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申请号: CN201810988636.X申请日: 2018-08-28
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公开(公告)号: CN108754429A公开(公告)日: 2018-11-06
- 发明人: 刘金彪 , 奉洛阳 , 李有亮 , 徐天宇 , 谭瑞 , 卫勇勇 , 刘祥 , 陈立 , 文凯 , 蒋勤文 , 孙尚书 , 刘鹏
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 张静尧
- 主分类号: C23C14/24
- IPC分类号: C23C14/24
摘要:
本发明提供一种蒸发源,涉及蒸镀技术领域,用于改善现有技术中因蒸发源漏出的热量过高,导致掩膜板受热变形的问题。蒸发源,包括坩埚和用于产生热辐射的加热器,所述坩埚包括坩埚本体和设置在所述坩埚本体顶面的喷嘴,除所述坩埚本体的顶面侧外,所述坩埚本体的其余侧中的至少一侧设置有调热组件;所述调热组件用于使所述调热组件与所述坩埚本体之间的热辐射对流;其中,所述调热组件与所述坩埚本体之间具有间隙。
公开/授权文献
- CN108754429B 一种蒸发源 公开/授权日:2020-11-06
IPC分类: