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公开(公告)号：CN114318238B
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202111651965.3
申请日：2021-12-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开一种蒸发源装置、蒸镀设备及蒸镀方法，该蒸发源装置包括：坩埚，用于容纳蒸镀材料，所述坩埚设有用于输出所述蒸镀材料的多个喷口，多个所述喷口至少排列为一排；风扇部件，可转动地设置于所述坩埚的喷口处，以使所述蒸镀材料通过所述风扇部件向外喷射；加热部件，用于对所述坩埚内的蒸镀材料进行加热气化；以及多个驱动装置，分别用于驱动所述风扇部件旋转。本发明的蒸发源装置通过对风扇部件的转速控制，可对坩埚内压进行调控，从而调控蒸镀材料喷出的范围，随着风扇部件的旋转速度增加，喷射蒸镀材料的区域越集中，该区域内的材料沉积的越多，从而调整该区域的膜层厚度。
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公开(公告)号：CN113503860B
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202111007067.4
申请日：2021-08-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人： 李元星 , 刘金彪 , 罗楠 , 晋亚杰 , 刘文豪 , 李靖 , 姬磊 , 加新星 , 肖昂 , 胡斌 , 周杰 , 兰代江 , 李端瑞 , 党博谭 , 刘飞 , 祁泽宙 , 黄瑮 , 汪泽峰
IPC分类号： G01C9/00
摘要： 一种水平度检测治具及检测方法，所述水平度检测治具用于对待检测件上的多个检测位的水平度进行检测，包括治具本体，以及设于所述治具本体上的控制面板和多个测距传感器；所述治具本体设置为定位在所述待检测件上；所述多个测距传感器位于同一水平面上，并设置为测量与对应的所述多个检测位之间的距离；所述控制面板包括控制器并设有多个指示灯，所述控制器设置为判断所述多个测距传感器的测量数据是否在预设范围，并设置为根据所述判断结果控制所述多个指示灯的指示状态。本公开实施例的水平度检测治具及检测方法，可以快速地对待检测件上的多个检测位的水平度进行检测，测量结果准确，不易出现漏测。
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公开(公告)号：CN113355639A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110637531.1
申请日：2021-06-08
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本申请公开了一种温度检测装置及蒸镀设备，其中，温度检测装置，包括第一温度检测单元，用于设置在所需测温的工作腔内；第二温度检测单元，用于设置在所述工作腔外；测量单元，用于设置在所述工作腔外，至少确定所述第一温度检测单元或所述第二温度检测单元的检测温度；连接选择单元，用于设置在所述工作腔外，通过连接导线，选择性的将所述第一温度检测单元或所述第二温度检测单元与所述测量单元电连接。由于连接选择单元可以通过连接导线，选择性的将所述第一温度检测单元或所述第二温度检测单元与所述测量单元电连接，就可以在工作腔不停机的情况下来定位异常是出现在温度检测单元，还是出现在与温度检测单元连接的导线。
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公开(公告)号：CN109518136A
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201910069733.3
申请日：2019-01-24
申请人： 成都京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： C23C14/24
摘要： 本申请公开了一种蒸镀结构、蒸镀系统及蒸镀结构的使用方法，属于显示技术领域。蒸镀结构包括：蒸镀坩埚、喷嘴和浮板，蒸镀坩埚用于盛放蒸镀源材料，蒸镀源材料的状态在受热后由液态变为气态；喷嘴设置在蒸镀坩埚的出口处，喷嘴用于向待蒸镀基板表面喷射呈气态的蒸镀源材料；浮板被配置为：漂浮在呈液态的蒸镀源材料的表面，且浮板与蒸镀坩埚的内壁之间具有间隙，浮板具有多个镂空结构，多个镂空结构被配置为：供呈气态的蒸镀源材料通过。本申请提高了在待蒸镀基板上形成的膜层的均一性。本申请用于蒸镀结构和蒸镀系统。
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公开(公告)号：CN109161855A
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201811313344.2
申请日：2018-11-06
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种蒸镀装置及蒸镀方法，该蒸镀装置包括第一过渡腔、传送腔、蒸镀腔和温控单元；其中，传送腔被配置为导通第一过渡腔与蒸镀腔；蒸镀腔被配置为采用掩膜版对衬底基板进行蒸镀；温控单元被配置为监控在蒸镀腔外部且蒸镀完成后的衬底基板的第一温度，并控制第一过渡腔内的衬底基板至第一温度。通过将第一过渡腔内的衬底基板的温度预先控制为蒸镀所需温度，有效遏制了衬底基板进入蒸镀腔后由于受热形变而产生的相对位移，从而提高了蒸镀过程中的对位精度。
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公开(公告)号：CN114395755B
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202210015407.6
申请日：2022-01-07
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明涉及OLED制备技术领域,公开了一种晶振盘结构及其使用方法,该结构包括外壳、盘体、和驱动组件；盘体包括内圆和外环；驱动组件包括第一驱动装置以及第二驱动装置，第一驱动装置用于驱动内圆旋转，第二驱动装置用于驱动外环旋转；内圆的第一面设有多个晶振片，内圆的第二面设有多个第一电极，多个第一电极与多个设置于内圆的第一面的晶振片一一对应设置；外环的第一面设有多个晶振片，外环的第二面设有多个第二电极，多个第二电极与设置于外环的第一面的晶振片一一对应设置，第一电极和第二电极用于模拟数据传输；盘体安装于外壳，外壳上具有通孔，通孔用于将一个位于内圆的晶振片和/或一个位于外环的晶振片露出。
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公开(公告)号：CN110093586B
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN201910492249.1
申请日：2019-06-06
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人： 刘金彪
摘要： 本发明公开了一种蒸发源及蒸镀方法，用以解决相关技术中，蒸镀成膜的膜厚不均匀的问题。其中，蒸发源包括：坩埚、加热器以及反射组件；所述坩埚的至少一面依次设置有所述加热器以及所述反射组件，所述反射组件的反射面与所述加热器相对，所述反射组件上设置有大小可调的开口；所述坩埚本体的顶面具有喷嘴，所述坩埚内具有加热可气化的材料，气化状态的所述材料通过所述喷嘴喷出。本发明可提高蒸镀成膜的均匀性。
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公开(公告)号：CN114277339A
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN202111659856.6
申请日：2021-12-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人： 刘金彪 , 李元星 , 刘文豪 , 肖昂 , 罗楠 , 晋亚杰 , 胡斌 , 李靖 , 加新星 , 姬磊 , 沈萌 , 孙尚书 , 高俊 , 周杰 , 刘飞 , 李端瑞 , 兰代江 , 党博谭 , 王天昊 , 祁泽宙 , 尹茂吉
摘要： 本公开一些实施例公开了蒸镀源及蒸镀方法，涉及显示装置制备技术领域，用于提高速率调控响应速度，从而提蒸镀高速率稳定性。所述蒸镀源包括：坩埚本体、喷嘴、坩埚载体和坩埚本体加热器，所述坩埚本体具有开口端、封闭端以及被配置为容纳蒸镀材料的腔室；所述喷嘴设置于所述坩埚本体的开口端，并通过所述开口端与所述腔室连通；所述坩埚本体设置于所述坩埚载体内部；所述坩埚本体加热器设置于所述坩埚本体的外表面上，所述坩埚本体加热器包括加热环。所述蒸镀源用于制造显示面板。
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公开(公告)号：CN113957407A
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN202111249713.8
申请日：2021-10-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开一种真空监控器及蒸镀设备，涉及蒸镀技术领域，以减小更换真空监控器所造成的蒸镀空间内的真空度波动，减少不良品产出，提高良品率。该真空监控器包括真空监控组件和抽真空组件。其中，真空监控组件内设有真空腔，且真空监控组件上设有连通真空腔的进样口和出气口。进样口用于连接蒸镀设备的蒸镀机；抽真空组件与出气口连接，用于对真空腔进行抽真空。本发明用于监控蒸镀机的蒸镀空间内的真空度。
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公开(公告)号：CN113416929A
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN202110673998.1
申请日：2021-06-17
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本公开实施例提供一种蒸镀源及其调试方法、蒸镀装置。蒸镀源包括：坩埚本体，设置有朝向待蒸镀基板表面的出口；压力调控机构，位于坩埚本体内且位于蒸镀材料的蒸发路径上，被配置为调节蒸镀材料蒸汽的压力，以使从出口排出的蒸镀材料蒸汽沿垂直于待蒸镀基板表面的方向沉积在待蒸镀基板表面。本公开实施例的蒸镀源，蒸镀材料蒸汽沿垂直于待蒸镀基板表面的方向沉积在待蒸镀基板表面，可以避免产生阴影，有利于产品高分辨率的实现。
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