Invention Publication
- Patent Title: 电子材料用高纯度吡啶的生产方法
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Application No.: CN201780017102.6Application Date: 2017-03-14
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Publication No.: CN108780737APublication Date: 2018-11-09
- Inventor: 李范镇 , 李祐镛 , 李承镛
- Applicant: 德山株式会社
- Applicant Address: 韩国京畿道
- Assignee: 德山株式会社
- Current Assignee: 德山株式会社
- Current Assignee Address: 韩国京畿道
- Agency: 北京三幸商标专利事务所
- Agent 刘卓然
- Priority: 10-2016-0030912 2016.03.15 KR
- International Application: PCT/KR2017/002762 2017.03.14
- International Announcement: WO2017/160067 KO 2017.09.21
- Date entered country: 2018-09-13
- Main IPC: H01L21/02
- IPC: H01L21/02
Abstract:
本发明涉及一种高纯度吡啶的生产方法,尤其涉及一种包括:预处理步骤,向包含吡嗪和吡啶的吡啶混合物添加包含碱金属的氨基化合物进行反应;以及,蒸馏步骤,在上述预处理步骤之后对吡啶混合物进行蒸馏;从而能够获得可适用于电子材料的高纯度吡啶的电子材料用高纯度吡啶的生产方法。
Public/Granted literature
- CN108780737B 电子材料用高纯度吡啶的生产方法 Public/Granted day:2022-12-09
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IPC分类: