发明公开
- 专利标题: 一种基板及其制备方法、显示装置
- 专利标题(英): Substrate, preparation method of substrate and display device
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申请号: CN201810672316.3申请日: 2018-06-26
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公开(公告)号: CN108878689A公开(公告)日: 2018-11-23
- 发明人: 胡月 , 廖金龙 , 叶志杰 , 彭锐
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号: H01L51/56
- IPC分类号: H01L51/56 ; H01L27/32
摘要:
本发明实施例提供一种基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,可解决在现有像素界定层的开口区域形成的发光功能层厚度不均匀的问题。该基板的制备方法包括:在衬底基板上形成像素界定层薄膜;其中,像素界定层薄膜的材料包括光刻胶和掺杂在光刻胶中的亲性材料、弹性材料及辅助颗粒;辅助颗粒用于在分解时释放出气体,弹性材料用于在辅助颗粒释放出气体时使像素界定层薄膜膨胀;亲性材料、光刻胶以及弹性材料的分子量均大于辅助颗粒的分子量;对像素界定层薄膜进行加热,使辅助颗粒向远离衬底基板的方向移动;对像素界定层薄膜进行处理形成像素界定层,并使辅助颗粒分解释放出气体。用于像素界定层的制备。
公开/授权文献
- CN108878689B 一种基板及其制备方法、显示装置 公开/授权日:2020-03-06
IPC分类: