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公开(公告)号：CN107012431B
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN201710310386.X
申请日：2017-05-04
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，涉及真空蒸发镀膜领域，能够解决现有的掺杂蒸镀过程中，无法对同一膜层的多种蒸镀材料蒸发速率实时控制以实现膜层梯度掺杂的问题。包括至少两个相邻设置的子蒸镀源，每一个子蒸镀源包括有蒸镀坩埚以及设置在蒸镀坩埚上的蒸镀出口，在至少一个子蒸镀源的蒸镀出口覆盖有速率调节部件。速率调节部件包括透过区域，移动速率调节部件可调节透过区域与蒸镀出口的重合面积。
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公开(公告)号：CN110033704B
公开(公告)日：2022-07-19
申请号：CN201910317675.1
申请日：2019-04-19
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G09F9/30 , H01L21/683 , H01L27/15
摘要： 本发明提供一种转印装置和转印方法，其中，转印装置包括：转印吸头，包括用于转移待转印元件的吸附端面；驱动组件，所述驱动组件与所述转印吸头连接；控制器，与所述驱动组件连接，用于控制所述驱动组件动作进而驱动多个转印吸头的吸附端面处于同一平面或曲面。本发明提供的转印装置和转印方法，能够提高将待转印元件转印至曲面柔性承印衬底的质量。
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公开(公告)号：CN108389965B
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN201810172123.1
申请日：2018-03-01
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 本发明提供了一种成膜方法、显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，成膜方法包括：向基板的待成膜区域喷墨打印墨水的带电液滴；在待成膜区域的墨水干燥过程中，对待成膜区域施加电场，使得带电的墨水作振荡运动。本发明的技术方案能够改善打印成膜的膜形貌，进而提升显示装置的性能。
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公开(公告)号：CN109524564B
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN201811408107.4
申请日：2018-11-23
申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明涉及温度检测技术领域，尤其涉及一种有机发光晶体管、温感装置及其温度测试方法。可将温度检测功能与发光功能集成在一起，进一步提高有机发光晶体管的集成度和多功能性。一种有机发光晶体管，包括：衬底，以及设置在所述衬底上的栅极、栅绝缘层、源极、漏极和发光功能层，还包括：与所述栅极串联的外接电极；在所述栅极和所述外接电极构成的整体中，一部分的材料为热敏材料，其余部分的材料为非热敏材料，使得所述栅极的电阻和所述外接电极的电阻的比值可随温度的变化而变化。本发明实施例用于检测温度。
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公开(公告)号：CN107845661B
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201711019852.5
申请日：2017-10-26
申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本申请公开了一种像素界定层及其制备方法、显示面板，用以提高OLED发光层的成膜均匀性、提高OLED发光层的出光效果、提高显示器件的寿命。本申请实施例提供的一种像素界定层，该像素界定层设置在衬底上，所述像素界定层包括：在所述衬底上由亲水像素界定层和疏水像素界定层交替叠层设置的至少四层像素界定子层；与所述衬底相邻的所述像素界定子层为所述亲水像素界定层，在垂直于所述衬底方向上，与所述衬底距离最远的所述像素界定子层为所述疏水像素界定层。
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公开(公告)号：CN106250641B
公开(公告)日：2019-03-08
申请号：CN201610634740.X
申请日：2016-08-04
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 本发明公开一种OLED器件衰减分析装置及衰减分析方法，涉及显示技术领域，以判断OLED器件中发光层的发光材料是否发生本征衰减。该OLED器件衰减分析装置通过获取OLED器件老化前后，第一、二发光约束条件下OLED器件发光亮度；根据OLED器件老化前后，第一、二发光约束条件下OLED器件发光亮度的差值，构建老化前后发光亮度差值函数，并对该函数进行积分，对比老化前后积分结果，根据对比结构判断OLED器件的发光层的发光材料是否发生本征衰减。该OLED器件衰减分析方法包括上述OLED器件衰减分析装置。该OLED器件衰减分析装置用于OLED器件衰减分析。
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公开(公告)号：CN105487160B
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201610027707.0
申请日：2016-01-15
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 本发明涉及显示技术领域，公开了一种金属线栅偏振器制作方法，包括步骤：S1：在衬底基板上制作出间距为P，宽度为W的辅助线栅；S2：利用原子层沉积方式在辅助线栅上覆盖一层厚度大于P/2‑W的金属薄膜；S3：刻蚀辅助线栅顶部和沟槽对应区域的金属薄膜；S4：去掉辅助线栅，形成间距为P/2，宽度为P/2‑W的金属线栅，以形成金属线栅偏振器。还公开了一种金属线栅偏振器及显示装置。本发明的金属线栅偏振器制作方法制作的偏振器的金属线栅之间的间距可以为现有方法制作的偏振器的金属线栅的间距的一半，因此本发明的金属线栅偏振器的整体偏振性能得到了大大的提升。
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公开(公告)号：CN108878689A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810672316.3
申请日：2018-06-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 本发明实施例提供一种基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可解决在现有像素界定层的开口区域形成的发光功能层厚度不均匀的问题。该基板的制备方法包括：在衬底基板上形成像素界定层薄膜；其中，像素界定层薄膜的材料包括光刻胶和掺杂在光刻胶中的亲性材料、弹性材料及辅助颗粒；辅助颗粒用于在分解时释放出气体，弹性材料用于在辅助颗粒释放出气体时使像素界定层薄膜膨胀；亲性材料、光刻胶以及弹性材料的分子量均大于辅助颗粒的分子量；对像素界定层薄膜进行加热，使辅助颗粒向远离衬底基板的方向移动；对像素界定层薄膜进行处理形成像素界定层，并使辅助颗粒分解释放出气体。用于像素界定层的制备。
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公开(公告)号：CN108766244A
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201810575185.7
申请日：2018-06-06
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G09F9/30
摘要： 本发明提供一种柔性显示面板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，用于解决剥离承载基板和柔性衬底过程中，会损坏显示器件，导致显示器件寿命降低的问题。柔性显示面板的制备方法包括：在承载基板的第一表面形成呈固态的形态转变层，其中，所述形态转变层在光照条件下能够在固态和液态之间转换；在形成有呈固态的所述形态转变层的承载基板上形成柔性衬底；对呈固态的所述形态转变层进行液化；将所述柔性衬底从所述承载基板上剥离。
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公开(公告)号：CN107607051A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201711013570.4
申请日：2017-10-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G01B11/06
摘要： 本发明公开了一种膜厚检测装置，包括：激光光源、光学镜组、图像接收器；其中，光学镜组，用于接收激光光源出射的激光，生成第一光束和至少两次透过待测薄膜的第二光束，使第一光束与第二光束发生干涉；图像接收器，用于接收干涉光并确定干涉信息，根据干涉信息确定薄膜的厚度。本发明实施例提供的膜厚检测装置采用激光多次透过待测薄膜后的激光干涉信息来测量薄膜的厚度，光线的光程变化可感知微小的折射率以及距离变化，因此利用光程变化确定薄膜厚度的灵敏度相较现有技术的方式有较大提高。
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