发明授权
CN108962539B 一种金属/氧化物三层异质结薄膜及其制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种金属/氧化物三层异质结薄膜及其制备方法
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申请号: CN201810811987.3申请日: 2018-07-23
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公开(公告)号: CN108962539B公开(公告)日: 2020-06-05
- 发明人: 时钟 , 李宇飞
- 申请人: 同济大学
- 申请人地址: 上海市虹口区四平路1239号
- 专利权人: 同济大学
- 当前专利权人: 同济大学
- 当前专利权人地址: 上海市虹口区四平路1239号
- 代理机构: 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司
- 代理商 胡永宏
- 主分类号: H01F10/32
- IPC分类号: H01F10/32 ; H01F41/14 ; C23C14/35 ; C23C14/16 ; C23C14/18 ; C23C14/28 ; C23C14/08 ; C23C14/58
摘要:
本发明公开了一种金属/氧化物三层异质结薄膜及其制备方法,包括:在单晶硅或钆镓石榴石衬底上,从下至上依次为铂膜、钇铁石榴石膜和氧化亚钴膜,通过反铁磁氧化物CoO进行覆盖形成三层异质结结构,对传统铂膜/钇铁石榴石膜双层异质结结构进行改进,在同样热梯度条件下自旋热电电压可以提升100%,大大提高了自旋传输率,增强了器件的热稳定性。
公开/授权文献
- CN108962539A 一种金属/氧化物三层异质结薄膜及其制备方法 公开/授权日:2018-12-07