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发明公开
CN108966658A 沉积设备、真空系统、及操作沉积设备的方法 无效 - 驳回

沉积设备、真空系统、及操作沉积设备的方法
摘要：
本公开内容提供一种用于真空沉积工艺的沉积设备(100)。沉积设备包括真空腔室(130)；可移动沉积源(110)，布置于真空腔室中；及供应布置(120)，提供用于数个媒介供应线的供应通道，这些媒介供应线用于可移动沉积源，其中供应布置包括轴向可偏转元件(122)。
摘要（英）：

The present disclosure provides a deposition apparatus (100) for a vacuum deposition process. The deposition apparatus includes a vacuum chamber (130), a movable deposition source (110) arranged in the vacuum chamber, and a supply arrangement (120) providing a supply passage for media supply lines for the movable deposition source, wherein the supply arrangement comprises an axially deflectable element (122).

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