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公开(公告)号：CN109792004A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780036547.9
申请日：2017-09-05
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 萨伊亚穆图西·哥文达萨米 , 沃尔夫冈·克莱因 , 斯里尼瓦斯·萨鲁古 , 安德烈亚斯·索尔 , 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧
IPC: H01L51/56 , H01L51/00 , H01L21/67 , H01L21/033 , G03F7/20
Abstract: 描述一种搬运掩模器件的方法。根据实施方式，所述方法包括：将所述掩模器件装载在用于保持掩模器件的保持布置上；将所述保持布置从第一状态移动到第二状态，所述第二状态为非水平状态；使所述保持布置与掩模载体对准；以及将所述掩模器件从所述保持布置传送到所述掩模载体。另外，描述一种用于从掩模载体更换掩模器件的设备以及一种包括这种设备的真空系统。
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公开(公告)号：CN109005664A
公开(公告)日：2018-12-14
申请号：CN201780006947.5
申请日：2017-04-07
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述了一种用以于处理系统的真空腔室中导引多条供应接线的供应接线导件(100)。供应接线导件包括导引布置(110)，导引布置(110)包括多个连接元件(115)，其中这些连接元件(115)相对于彼此可调整角度。再者，供应接线导件包括围绕导引布置(110)设置的柔性管(120)。
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公开(公告)号：CN108966657B
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201780011626.4
申请日：2017-03-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 安德烈亚斯·索尔
IPC: C23C14/04 , H01F7/02 , B23Q3/154 , H01L21/677
Abstract: 说明一种用于在真空系统中使用的载体(20)。所述载体(20)包括：磁体布置(30)，所述磁体布置(30)包括一个或多个第一永磁体(32)；一个或多个第二永磁体(34)；和磁体装置(36)，经构造以改变一个或多个第一永磁体的磁化。载体可用于在真空系统中运载掩模装置或基板。此外，说明了一种真空系统(200)和一种操作真空系统的方法。
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公开(公告)号：CN109563608A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780007472.1
申请日：2017-02-24
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/04 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 说明一种用于在真空腔室中定位基板载体(150)和掩模载体(160)的定位配置(100)。定位配置(100)包括第一轨道(110)，在第一方向中延伸并且经构造以用于基板载体(150)的传送，基板载体(150)经构造以用于保持基板，基板具有基板表面；第二轨道(120)，在第一方向中延伸并且经构造以用于掩模载体(160)的传送，其中第一轨道(110)和第二轨道(120)在与基板表面共面的平面中偏移偏移距离(D)；和保持配置(130)，经构造以用于保持掩模载体(160)，其中保持配置(130)布置于第一轨道(110)和第二轨道(120)之间。
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公开(公告)号：CN108966657A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201780011626.4
申请日：2017-03-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 安德烈亚斯·索尔
IPC: C23C14/04 , H01F7/02 , B23Q3/154 , H01L21/677
Abstract: 说明一种用于在真空系统中使用的载体(20)。所述载体(20)包括：磁体布置(30)，所述磁体布置(30)包括一个或多个第一永磁体(32)；一个或多个第二永磁体(34)；和磁体装置(36)，经构造以改变一个或多个第一永磁体的磁化。载体可用于在真空系统中运载掩模装置或基板。此外，说明了一种真空系统(200)和一种操作真空系统的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108966676B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN201780007122.5
申请日：2017-04-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 安德烈亚斯·索尔
IPC: H01L21/677
Abstract: 说明一种处理掩模装置的方法，所述掩模装置经构造以用于在基板上的带掩模的沉积。所述方法包括：装载(Y1)掩模装置(10)至真空系统(100)中；在真空系统中附接(Y3)掩模装置(10)至掩模载体(15)；和在真空系统(100)中以非水平定向沿着输送路径输送保持掩模装置(10)的掩模载体(15)。一种其他掩模处理方法包括：在真空系统(100)中以非水平定向(V)沿着输送路径输送保持掩模装置(10)的掩模载体(15)；在真空系统(100)中从掩模载体(15)分离(X1)掩模装置(10)；和从真空系统(100)卸载(X3)掩模装置(10)。根据其他方面，说明一种用于处理掩模装置的掩模处理组件(20)以及具有至少一个掩模处理组件的真空系统。
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公开(公告)号：CN109673158B
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN201780029724.0
申请日：2017-08-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 安德烈亚斯·索尔
Abstract: 一种用于在真空涂布工艺中处理若干掩模的方法。每个掩模被配置为在涂布工艺中使用预定涂布应用时间。方法包括：提供若干匣盒，每个匣盒具有若干掩模狭槽；和根据每个掩模的涂布应用时间，将所述若干掩模分类成至少两个群集群组。方法进一步包括：将所述至少两个群集群组分配到所述若干匣盒中的一个或多个；和根据分配，将所述若干掩模存储在所述若干匣盒中。
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公开(公告)号：CN110972483A
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201880046285.9
申请日：2018-07-30
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 安德烈亚斯·索尔 , 马蒂亚斯·克雷布斯 , 安娜贝儿·霍夫曼 , 杰里·西格蒙德
Abstract: 描述一种用于处理基板的真空处理设备。所述真空处理设备包括：真空腔室；和沉积源，所述沉积源设置在所述真空腔室中。所述设备进一步包括第一轨道布置，所述第一轨道布置具有适于输送基板的第一输送轨道和适于输送掩模的第二输送轨道。此外，所述设备包括第三输送轨道，所述第三输送轨道适于在所述沉积源与所述掩模之间输送掩模遮蔽件，以避免所述掩模的污染。所述第三输送轨道适于将所述掩模遮蔽件输送到真空腔室外，所以拆下及清洁受到来自沉积源的材料污染的掩模遮蔽件是可行的。
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公开(公告)号：CN110234792A
公开(公告)日：2019-09-13
申请号：CN201780007973.X
申请日：2017-03-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 安德烈亚斯·索尔
IPC: C23C14/56 , C23C16/54 , H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 描述一种操作真空处理系统(100、200、300)的方法，所述真空处理系统具有主要传输路径(50)，基板可沿着主要传输路径(50)在主要传输方向(Z)上传输。方法包括：(1a)从主要传输路径(50)输送出基板(10)至第一沉积模块(D1)中以在基板(10)上沉积第一材料；(1b)从主要传输路径(50)输送出基板(10)至第二沉积模块(D2)中以在基板(10)上沉积第二材料；和(1c)从主要传输路径(50)输送出基板(10)至一个或多个沉积模块以在基板(10)上沉积一种或多种材料。此外，描述了操作真空处理系统的一个或多个旋转模块的多种方法，所述真空处理系统经构造以在多个基板上沉积两种或更多种材料。
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公开(公告)号：CN109673158A
公开(公告)日：2019-04-23
申请号：CN201780029724.0
申请日：2017-08-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 安德烈亚斯·索尔
Abstract: 一种用于在真空涂布工艺中处理若干掩模的方法。每个掩模被配置为在涂布工艺中使用预定涂布应用时间。方法包括：提供若干匣盒，每个匣盒具有若干掩模狭槽；和根据每个掩模的涂布应用时间，将所述若干掩模分类成至少两个群集群组。方法进一步包括：将所述至少两个群集群组分配到所述若干匣盒中的一个或多个；和根据分配，将所述若干掩模存储在所述若干匣盒中。
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