- 专利标题： 用于确定结构的特性的方法和装置、器件制造方法
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申请号： CN201780026352.6申请日： 2017-04-11
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公开(公告)号： CN109073568A公开(公告)日： 2018-12-21
- 发明人: P·A·J·廷尼曼斯 , S·G·J·马斯杰森 , S·B·鲁博尔 , 林楠
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 北京市金杜律师事务所
- 代理商 王茂华; 张昊
- 优先权： 16167643.2 2016.04.29 EP
- 国际申请： PCT/EP2017/058676 2017.04.11
- 国际公布： WO2017/186483 EN 2017.11.02
- 进入国家日期： 2018-10-26
- 主分类号： G01N21/95
- IPC分类号： G01N21/95 ; G01N21/956 ; H01L21/66 ; G03F7/20
摘要：
例如用x射线或EUV波段中的辐射来照射感兴趣结构(T)，并且通过检测器(19、274、908、1012)检测散射的辐射。处理器(PU)例如通过仿真(S16)辐射与结构的交互并且比较(S17)仿真交互与检测辐射来计算诸如线宽(CD)或覆盖(OV)的特性。该方法被修改(S14a、S15a、S19a)来考虑由检查辐射引起的结构中的改变。这些改变例如可以是材料的收缩或者光学特性的改变。可以在当前观察或先前观察中由检测辐射引起改变。
公开/授权文献
- CN109073568B 用于确定结构的特性的方法和装置、器件制造方法 公开/授权日：2022-01-11
