- 专利标题： 具有高分辨率和高纵横比的KrF激光用负性光致抗蚀剂组合物
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申请号： CN201780019170.6申请日： 2017-03-22
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公开(公告)号： CN109073973B公开(公告)日： 2021-09-28
- 发明人: 李昇勋 , 李昇炫 , 李秀珍 , 崔映喆
- 申请人： 荣昌化学制品株式会社
- 申请人地址： 韩国庆尚北道
- 专利权人： 荣昌化学制品株式会社
- 当前专利权人： 荣昌化学制品株式会社
- 当前专利权人地址： 韩国庆尚北道
- 代理机构： 北京青松知识产权代理事务所
- 代理商 郑青松
- 优先权： 10-2016-0033733 20160322 KR
- 国际申请： PCT/KR2017/003043 2017.03.22
- 国际公布： WO2017/164633 KO 2017.09.28
- 进入国家日期： 2018-09-21
- 主分类号： G03F7/038
- IPC分类号： G03F7/038 ; G03F7/004
摘要：
本发明涉及用具有高分辨率和高纵横比的KrF激光用负性光致抗蚀剂组合物；更详细地说，提供如下的KrF激光用负性光致抗蚀剂组合物：为了改善现有的负性光致抗蚀剂的物理性质而包含特定化合物，进而相比于现有的负性光致抗蚀剂，在短波长曝光光源中也能够防止精细图案坍塌，不仅如此还能够实现高分辨率以及高纵横比，进而适合用于半导体工艺。
公开/授权文献
- CN109073973A 具有高分辨率和高纵横比的KrF激光用负性光致抗蚀剂组合物 公开/授权日：2018-12-21
IPC分类:
