发明公开
- 专利标题: 一次成型制作目标防伪图案的核孔防伪薄膜的方法
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申请号: CN201810804933.4申请日: 2018-07-20
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公开(公告)号: CN109118947A公开(公告)日: 2019-01-01
- 发明人: 庹先国 , 邓超 , 王琦标 , 张虹 , 李怀良 , 冷阳春 , 石睿 , 郑洪龙 , 李金夫 , 金东升
- 申请人: 四川理工学院 , 成都理工大学 , 西南科技大学
- 申请人地址: 四川省自贡市汇东学苑街180号
- 专利权人: 四川理工学院,成都理工大学,西南科技大学
- 当前专利权人: 四川理工学院,成都理工大学,西南科技大学
- 当前专利权人地址: 四川省自贡市汇东学苑街180号
- 代理机构: 成都众恒智合专利代理事务所
- 代理商 陈春华
- 主分类号: G09F3/02
- IPC分类号: G09F3/02
摘要:
本发明公开了一次成型制作目标防伪图案的核孔防伪薄膜的方法,解决了现有技术中工艺复杂,防伪膜机械性能不好,防伪力度差的问题。本发明的方法,利用金属Gd对热中子吸收特性,在塑料薄膜前放置具有镂空防伪图案的Gd mask薄片后,放于热中子束流上进行辐照,在所述塑料薄膜得到核孔组合形成的防仿图案。本发明基于热中子束流辐照,利用金属Gd对热中子吸收特性,一次成型制备核孔防伪膜图案。本发明提高了防伪膜制作门槛,降低了核孔防伪膜图案制作的复杂程度,提高了核孔防伪膜的机械强度,更利于应用。