发明公开
- 专利标题: 一种膜片内圆焊缝快速氦质谱检漏的装置
- 专利标题(英): Quick helium mass spectrum leakage detecting device for diaphragm inner circle welding joint
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申请号: CN201811436294.7申请日: 2018-11-28
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公开(公告)号: CN109297649A公开(公告)日: 2019-02-01
- 发明人: 王志猛 , 白景彬 , 刘景铎 , 朱捷 , 郭亚明 , 刘海燕 , 王春炎 , 霍福帅 , 姜全振 , 赵鹃 , 石晶辉 , 耿昌 , 肖长源 , 李思源 , 段天禹
- 申请人: 首都航天机械有限公司 , 中国运载火箭技术研究院
- 申请人地址: 北京市丰台区南苑警备东路2号
- 专利权人: 首都航天机械有限公司,中国运载火箭技术研究院
- 当前专利权人: 首都航天机械有限公司,中国运载火箭技术研究院
- 当前专利权人地址: 北京市丰台区南苑警备东路2号
- 代理机构: 中国航天科技专利中心
- 代理商 陈鹏
- 主分类号: G01M3/20
- IPC分类号: G01M3/20 ; G01M3/22
摘要:
一种膜片内圆焊缝快速氦质谱检漏的装置,解决了膜片由于薄壁及焊接内圆焊缝后形成的内腔小难以密封的问题,有效的避免了因膜片内圆焊缝泄漏导致整个膜盒报废的难题,且通过使用膜片内圆焊缝快速氦质谱检漏的装置大幅提高检漏效率。通过使用内撑工装、上下盖及密封圈等对膜片内圆焊缝焊接后形成的狭小空间进行密封,达到了快速、准确的氦质谱检漏的目的;本发明与现有技术相比,通过使用内撑工装、上下盖及密封圈等对膜片内圆焊缝焊接后形成的狭小空间进行密封,实现了膜片内圆焊缝检漏,减少了因膜片焊缝泄漏导致整个膜盒报废的可能。
公开/授权文献
- CN109297649B 一种膜片内圆焊缝快速氦质谱检漏的装置 公开/授权日:2020-10-23