发明公开
- 专利标题: 基于FDSOI的gg-NMOS器件
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申请号: CN201811071202.X申请日: 2018-09-14
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公开(公告)号: CN109309129A公开(公告)日: 2019-02-05
- 发明人: 王源 , 张立忠 , 何燕冬 , 张兴
- 申请人: 北京大学
- 申请人地址: 北京市海淀区颐和园路5号
- 专利权人: 北京大学
- 当前专利权人: 北京大学
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区颐和园路5号
- 代理机构: 北京路浩知识产权代理有限公司
- 代理商 王莹; 吴欢燕
- 主分类号: H01L29/786
- IPC分类号: H01L29/786 ; H01L23/64
摘要:
本发明实施例提供了一种基于FDSOI的gg-NMOS器件,包括:P型衬底、埋氧层、源极、漏极、栅极和外接电阻;外接电阻的一端与漏极连接,在外接电阻与漏极之间接入静电输入端,外接电阻的另一端与P型衬底连接;P型衬底的表面上一侧形成有埋氧层,在埋氧层的表面上形成有源极和漏极,源极和漏极之间形成的沟道上形成有栅极,栅极与源极均接地。本发明实施例提供的基于FDSOI的gg-NMOS器件,在静电输入端与P型衬底之间接入外接电阻,可以通过不同阻值的外接电阻确定合适的触发电压以满足不同ESD防护的需求。相比于现有技术中存在的基于FDSOI的gg-NMOS器件,可以实现更低的触发电压,节约了成本。
公开/授权文献
- CN109309129B 基于FDSOI的gg-NMOS器件 公开/授权日:2021-04-13
IPC分类: