本发明公开了多弧离子镀制备小调制周期Ti/TiN超硬纳米多层膜。该膜的制备方法包括：将钛金属沉积靶单向放置于腔体的内部；将硬质合金和单面抛光单晶硅片作为薄膜生长的样品基底；抽取腔体内部的空气，使得腔体内部为真空状态；在真空状态下，对腔体的内部进行加热，并通入高于氩气纯度阈值的氩气，辉光放电清洗第一时间段；将氩气的流量降低至第一流量流速；开启钛金属沉积靶，并在负偏压下对样品基底进行轰击清洗第二时间段；预先沉积第一沉积厚度的钛层作为过渡层；将氩气和氮气分别周期性的通入腔体内，交替沉积钛子层和氮化钛子层，形成多弧离子镀制备小调制周期Ti/TiN超硬纳米多层膜，提高了基于TiN薄膜所制成的产品的使用寿命。