- 专利标题： 具有用于重定向光的非对称光栅的超表面及其制造方法
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申请号： CN201780041633.9申请日： 2017-05-05
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公开(公告)号： CN109476175A公开(公告)日： 2019-03-15
- 发明人: 林滇敏 , M·梅利 , P·圣西莱尔 , C·佩罗兹 , E·Y·波利亚科夫
- 申请人： 奇跃公司
- 申请人地址： 美国佛罗里达州
- 专利权人： 奇跃公司
- 当前专利权人： 奇跃公司
- 当前专利权人地址： 美国佛罗里达州
- 代理机构： 北京市中咨律师事务所
- 代理商 贺月娇; 杨晓光
- 优先权： 62/333,067 2016.05.06 US
- 国际申请： PCT/US2017/031328 2017.05.05
- 国际公布： WO2017/193012 EN 2017.11.09
- 进入国家日期： 2019-01-03
- 主分类号： B44C1/22
- IPC分类号： B44C1/22 ; G01N21/31 ; G01N21/41 ; G02B6/32 ; G02B6/34 ; G06T7/20
摘要：
一种光学系统包括光学透射基板，光学透射基板包括超表面，超表面包括光栅，光栅包括多个单位基元。每个单位基元包括具有第一宽度的横向伸长的第一纳米梁；以及与第一纳米梁隔开一间隙的横向伸长的第二纳米梁，第二纳米梁具有大于第一宽度的第二宽度。单位基元的间距为10nm至1μm。第一和第二纳米梁的高度为：在基板的透射率大于3.3的情况下，10nm至450nm；以及在所述折射率为3.3或更小的情况下，10nm至1μm。
公开/授权文献
- CN109476175B 具有用于重定向光的非对称光栅的超表面及其制造方法 公开/授权日：2021-07-30
