公开(公告)号：CN110402350B

公开(公告)日：2022-05-24

申请号：CN201880018167.7

申请日：2018-03-06

申请人： 奇跃公司

发明人： M·梅利

IPC分类号： G02B6/00 ,  F21V8/00

摘要： 在一些实施例中，显示装置包括一个或多个波导，所述一个或多个波导在波导的边缘上具有气相沉积的光吸收膜以减轻重影。在一些实施例中，通过诸如蒸发沉积工艺的气相沉积直接在波导的边缘上形成膜。在一些实施例中，光吸收膜可以包含碳，例如采用碳的一种或多种同素异形体形式的碳，诸如富勒烯，或者包含黑硅。

公开(公告)号：CN110036317B

公开(公告)日：2021-11-26

申请号：CN201780061380.1

申请日：2017-10-03

申请人： 奇跃公司

发明人： M·梅利 ,  C·佩罗兹

IPC分类号： G02B6/124 ,  H01J37/317 ,  G02B6/136 ,  H01J37/305 ,  G02B5/18 ,  G02B27/01 ,  G02B27/42

摘要： 一种制造非均匀光栅的方法包括：将不同密度的离子注入到基底的对应区域中；例如通过光刻来图案化位于基底上的抗蚀剂层；使用图案化的抗蚀剂层蚀刻基底；然后从基底去除抗蚀剂层，留下具有至少一个光栅的基底，该至少一个光栅具有与注入到所述区域中的不同离子密度相关的非均匀特性。该方法还可以包括使用具有光栅的基底作为模具来例如通过纳米压印光刻制造具有对应非均匀特性的对应光栅。

公开(公告)号：CN109863446B

公开(公告)日：2021-06-25

申请号：CN201780064911.2

申请日：2017-08-22

申请人： 奇跃公司

发明人： C·佩罗兹 ,  M·梅利 ,  V·辛格 ,  D·朱伯格斯 ,  J·D·施穆伦 ,  Z·王 ,  S·杨 ,  F·Y·徐 ,  K·罗 ,  M·E·曼内斯 ,  M·N·米勒

IPC分类号： G02B27/09 ,  G02B5/18 ,  G02B6/02 ,  G02B6/124 ,  G02B27/44 ,  G02B6/293 ,  H04B10/2519 ,  H04B10/2507

摘要： 一种制造具有二元光栅结构和闪耀光栅结构的组合的波导的方法包括：离轴切割基板，在基板上沉积第一层，以及在第一层上沉积抗蚀剂层。抗蚀剂层包括图案。该方法还包括使用抗蚀剂层作为掩模以图案来蚀刻第一层。该图案包括第一区域和第二区域。该方法进一步包括在第二区域中的基板中产生二元光栅结构，并在第一区域中的基板中产生闪耀光栅结构。

公开(公告)号：CN108474901B

公开(公告)日：2020-04-10

申请号：CN201680077587.3

申请日：2016-11-03

申请人： 奇跃公司

发明人： C·佩罗兹 ,  M·梅利 ,  林滇敏 ,  E·波利亚科夫 ,  P·圣西莱尔

IPC分类号： G02B6/00

摘要： 一种显示系统包括具有由超表面形成的光内耦合光学元件或光外耦合光学元件的波导。该超表面是多层级(例如，双层级)结构，其具有通过由第一光学透射材料形成的间隔开的突起和突起之间的第二光学透射材料限定的第一层级。该超表面还包括由第二光学透射材料形成的第二层级。第一层级上的突起可以通过纳米压印第一光学透射材料来图案化，并且第二光学透射材料可以沉积在图案化的突起之上和之间。可以选择突起和突起之间的间隔的宽度来衍射光，并且突起的间距可以是10‑600nm。

公开(公告)号：CN109476175A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201780041633.9

申请日：2017-05-05

申请人： 奇跃公司

发明人： 林滇敏 ,  M·梅利 ,  P·圣西莱尔 ,  C·佩罗兹 ,  E·Y·波利亚科夫

IPC分类号： B44C1/22 ,  G01N21/31 ,  G01N21/41 ,  G02B6/32 ,  G02B6/34 ,  G06T7/20

摘要： 一种光学系统包括光学透射基板，光学透射基板包括超表面，超表面包括光栅，光栅包括多个单位基元。每个单位基元包括具有第一宽度的横向伸长的第一纳米梁；以及与第一纳米梁隔开一间隙的横向伸长的第二纳米梁，第二纳米梁具有大于第一宽度的第二宽度。单位基元的间距为10nm至1μm。第一和第二纳米梁的高度为：在基板的透射率大于3.3的情况下，10nm至450nm；以及在所述折射率为3.3或更小的情况下，10nm至1μm。

公开(公告)号：CN117501165A

公开(公告)日：2024-02-02

申请号：CN202280042535.8

申请日：2022-04-15

申请人： 奇跃公司

发明人： R·J·翁 ,  L·李 ,  张杰 ,  S·D·巴加特 ,  C·卑路斯 ,  V·K·刘 ,  S·巴尔加瓦 ,  M·梅利 ,  M·M·韦斯特

IPC分类号： G02B27/01

摘要： 公开了目镜和制造目镜的方法。在一些实施例中，目镜包括弯曲覆盖层和用于传播光的波导层。在一些实施例中，弯曲覆盖层包括抗反射特征。

公开(公告)号：CN110192145B

公开(公告)日：2022-06-10

申请号：CN201780083577.5

申请日：2017-11-13

申请人： 奇跃公司

发明人： C·奥 ,  M·梅利 ,  C·卑路斯 ,  V·辛格 ,  F·徐 ,  M·A·克鲁格

IPC分类号： G02F1/13 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/1347

摘要： 一种光学设备包括液晶层，该液晶层具有以第一图案布置的第一多个液晶分子和以第二图案布置的第二多个液晶分子。第一和第二图案沿液晶层的纵向轴或横向轴彼此间隔开约20nm和约100nm的距离。第一和第二多个液晶分子被配置为可以重定向可见或红外波长的光的第一和第二光栅结构。

公开(公告)号：CN113960793A

公开(公告)日：2022-01-21

申请号：CN202111078161.9

申请日：2017-08-22

申请人： 奇跃公司

发明人： S·巴尔加瓦 ,  R·D·泰克尔斯特 ,  V·K·刘 ,  C·佩罗兹 ,  P·圣西莱尔 ,  E·波利亚科夫 ,  J·舍费尔 ,  M·梅利 ,  M·韦斯特 ,  K·罗 ,  V·辛格 ,  F·Y·徐

IPC分类号： G02B27/01 ,  G02B6/00

摘要： 一种装置，包括具有第一光栅结构的输入耦合光栅，该第一光栅结构以第一组光栅参数为特征。输入耦合光栅被配置为接收来自光源的光。该装置还包括具有第二光栅结构的扩展光栅，该第二光栅结构以在至少两个维度中变化的第二组光栅参数为特征。第二光栅结构被配置为接收来自输入耦合光栅的光。该装置进一步包括具有第三光栅结构的输出耦合光栅，该第三光栅结构以第三组光栅参数为特征。输出耦合光栅被配置为接收来自扩展光栅的光，并向观察者输出光。

公开(公告)号：CN111399107A

公开(公告)日：2020-07-10

申请号：CN202010181089.1

申请日：2016-11-03

申请人： 奇跃公司

发明人： C·佩罗兹 ,  M·梅利 ,  林滇敏 ,  E·波利亚科夫 ,  P·圣西莱尔

IPC分类号： G02B6/00 ,  G02B27/01 ,  G02B6/293

摘要： 本发明涉及用于重定向光的超表面和制造方法。一种显示系统包括具有由超表面形成的光内耦合光学元件或光外耦合光学元件的波导。该超表面是多层级(例如，双层级)结构，其具有通过由第一光学透射材料形成的间隔开的突起和突起之间的第二光学透射材料限定的第一层级。该超表面还包括由第二光学透射材料形成的第二层级。第一层级上的突起可以通过纳米压印第一光学透射材料来图案化，并且第二光学透射材料可以沉积在图案化的突起之上和之间。可以选择突起和突起之间的间隔的宽度来衍射光，并且突起的间距可以是10-600nm。

公开(公告)号：CN110431118B

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN201880015722.0

申请日：2018-01-04

申请人： 奇跃公司

发明人： M·梅利 ,  C·佩罗兹 ,  V·辛格

IPC分类号： C03C3/078 ,  C03C3/076 ,  G02B6/10 ,  G02B6/12 ,  G02B5/18 ,  G02B6/136

摘要： 本文提供了用于在高折射率玻璃基板中形成例如用作波导的图案的等离子体蚀刻方法。该基板可以由具有大于或等于约1.65的折射率且具有小于约50wt％的SiO2的玻璃形成。等离子体蚀刻方法可以包括化学和物理蚀刻组分。在一些实施例中，等离子体蚀刻方法可以包括：在高折射率玻璃基板的至少一部分上形成图案化的掩模层，以及将掩模层和高折射率玻璃基板暴露于等离子体以从基板的暴露部分去除高折射率玻璃。随后从高折射率玻璃基板去除任何剩余的掩模层。玻璃的去除在高折射率玻璃基板中形成例如衍射光栅的期望的图案化结构。