本发明属于电子技术领域，尤其涉及一种电磁波屏蔽膜的制备方法，包括：获取载体层，在所述载体层的一表面制备保护层；在所述载体层远离所述保护层的表面真空溅射形成金属叠层，其中，所述金属叠层包括依次层叠设置在所述载体层远离所述保护层的表面的第一金属保护层、金属功能层和第二金属保护层。本发明实施例提供的电磁波屏蔽膜的制备方法，采用涂覆方法在载体层一侧形成保护层，再采用真空溅射方法在载体层的另一侧形成金属叠层，真空溅射可以通过控制溅射时间、速度控制膜层厚度，实现形成金属叠层薄膜，减少生产原料的使用。且真空溅射形成的金属叠层，成膜速度快，膜层均匀，稳定性好，膜层不易脱落，制备工艺简单。