发明公开
CN109545796A 一种曲面阵列基板及其制备方法
无效 - 驳回
- 专利标题: 一种曲面阵列基板及其制备方法
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申请号: CN201811156181.1申请日: 2018-09-30
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公开(公告)号: CN109545796A公开(公告)日: 2019-03-29
- 发明人: 尹炳坤
- 申请人: 武汉华星光电技术有限公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- 专利权人: 武汉华星光电技术有限公司
- 当前专利权人: 武汉华星光电技术有限公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- 代理机构: 深圳翼盛智成知识产权事务所
- 代理商 黄威
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L21/84
摘要:
本发明提供一种曲面阵列基板,包括基板、设置于所述基板上的第一金属层、设置于所述基板上且覆盖所述第一金属层的绝缘层、设置于所述绝缘层上的半导体层和设置于所述绝缘层上且与所述半导体层连接的第二金属层;其中,所述绝缘层上靠近弯曲中心处设置有通孔,所述第二金属层通过所述通孔与所述第一金属层连接。有益效果:将第二金属层通过通孔与第一金属层连接,提高第二金属层与绝缘层的连接强度,从而增加第二金属层的抗应力能力,从而降低第二金属层因应力断裂的风险。
IPC分类: