发明公开
- 专利标题: 用于pH中和过程的自抗扰控制参数整定方法
- 专利标题(英): Active-disturbance-rejection control parameter setting method used for pH (Potential of Hydrogen) neutralization process
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申请号: CN201811626458.2申请日: 2018-12-28
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公开(公告)号: CN109634123A公开(公告)日: 2019-04-16
- 发明人: 童不凡 , 王家栋 , 金晓明 , 阮骁骏 , 古勇
- 申请人: 浙江中控软件技术有限公司
- 申请人地址: 浙江省杭州市滨江区六和路309号中控科技园D区四楼
- 专利权人: 浙江中控软件技术有限公司
- 当前专利权人: 浙江中控软件技术有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市滨江区六和路309号中控科技园D区四楼
- 代理机构: 杭州华鼎知识产权代理事务所
- 代理商 项军
- 主分类号: G05B13/04
- IPC分类号: G05B13/04
摘要:
本发明提供了用于pH中和过程的自抗扰控制参数整定方法,包括建立初始自抗扰控制器结构,得到与初始自抗扰控制器结构对应的闭环传递函数表达式,基于闭环系统快速收敛条件对闭环传递函数表达式进行形式变换,确定待整定参数;逐个对待整定参数进行整定处理,确定每个待整定参数的计算方式;基于电荷及碳化物离子平衡原理建立pH中和模型,实现pH中和过程自抗扰控制,并结合以确定的自抗扰控制器中每个待整定参数的计算方式对pH中和过程自抗扰控制器参数进行调整;通过使用改进后的自抗扰控制器实现pH中和过程的控制,能够在保证系统跟踪性能的同时有较强的鲁棒性和抗干扰能力;相比于其他自抗扰控制器,可以减少了待整定参数数量,优化了整定效率。