发明授权
摘要:
本发明属于结构优化技术领域,并公开了一种等几何材料密度场结构拓扑优化方法。包括:(a)给定设计域作为待优化对象,构建与设计域对应的NURBS曲面;(b)计算NURBS曲面的等几何材料密度分布场,建立设计域的结构优化设计模型,使设计域在体积减小的同时仍满足结构刚度性能达到需求,定义设计模型获得设计域中各控制顶点对应的密度;(c)建立优化准则更新上述密度并使其收敛,由此获得所需的所述设计域中每个点对应的密度,从而实现等几何材料密度场结构拓扑优化。通过本发明,有效地实现结构优化设计,消除拓扑优化设计中常见的棋盘格问题、网格依赖和孤岛现象等数值不稳定问题,使拓扑优化的结构更加光滑,提高优化求解效率。
公开/授权文献
- CN109670200A 一种等几何材料密度场结构拓扑优化方法 公开/授权日:2019-04-23