Invention Grant
- Patent Title: 锑化铟薄膜太赫兹超表面及其热调谐方法、制备方法
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Application No.: CN201910149416.2Application Date: 2019-02-28
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Publication No.: CN109683213BPublication Date: 2019-09-27
- Inventor: 杨大全 , 张超 , 李小刚 , 兰楚文
- Applicant: 北京邮电大学
- Applicant Address: 北京市海淀区西土城路10号
- Assignee: 北京邮电大学
- Current Assignee: 北京邮电大学
- Current Assignee Address: 北京市海淀区西土城路10号
- Agency: 北京柏杉松知识产权代理事务所
- Agent 张函; 王春伟
- Main IPC: G02B1/00
- IPC: G02B1/00 ; G02F1/00

Abstract:
本发明实施例提供了一种锑化铟薄膜太赫兹超表面及其热调谐方法、制备方法,通过将太赫兹超表面设置为矩形基板层,柱阵列结构层,以及锑化铟薄膜三层结构,能够实现在温度改变时,锑化铟薄膜的介电常数随之改变,从而使本发明实施例的太赫兹超表面的共振频率发生改变,因此,本发明实施例的太赫兹超表面能够通过改变温度改变共振频率,同时增加太赫兹波共振频率的调谐范围,并且,本发明实施例的太赫兹超表面制备方法简单,适合广泛地应用于光电制造领域,从而提高太赫兹超表面的应用范围。
Public/Granted literature
- CN109683213A 锑化铟薄膜太赫兹超表面及其热调谐方法、制备方法 Public/Granted day:2019-04-26
Information query
IPC分类:
G | 物理 |
G02 | 光学 |
G02B | 光学元件、系统或仪器 |
G02B1/00 | 按制造材料区分的光学元件;用于光学元件的光学涂层 |