公开了一种用于测量衬底上的目标结构的检查设备以及相关联方法。检查设备包括用于产生测量辐射的照射源；用于聚焦测量辐射至所述目标结构上的光学装置；以及补偿光学装置。补偿光学装置可以包括SLM，可操作为空间调制测量辐射的波前以便于补偿所述光学装置中非均匀制造缺陷。在备选实施例中，补偿光学装置可以位于测量辐射的光束中，或在用于在HHG源中产生高阶谐波辐射的泵浦辐射束。其中位于泵浦辐射的光束中，补偿光学装置可以用于校正指向误差，或赋予期望的分布，或者在测量辐射的光束中的变化的照射图案。