- 专利标题: 一种利用离子注入实现目标薄膜纵向均匀掺杂的方法
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申请号: CN201811564257.4申请日: 2018-12-20
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公开(公告)号: CN109727850B公开(公告)日: 2020-12-08
- 发明人: 吕越 , 黄浩 , 贾棋 , 游天桂 , 伍文涛 , 欧欣 , 高波 , 王镇
- 申请人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 申请人地址: 上海市长宁区长宁路865号
- 专利权人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 当前专利权人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 当前专利权人地址: 上海市长宁区长宁路865号
- 代理机构: 上海泰能知识产权代理事务所
- 代理商 宋缨
- 主分类号: H01L21/265
- IPC分类号: H01L21/265 ; H01L21/67
摘要:
本发明提供一种利用离子注入实现目标薄膜纵向均匀掺杂的方法,包括于目标薄膜的厚度方向上选取N个不同的注入深度峰值点;确定待注入离子并提供M组预设注入条件以模拟待注入离子注入目标薄膜时的离子注入过程,得到注入能量‑注入深度分布函数组,从而得到N个与注入深度峰值点一一对应的注入能量值;设定目标薄膜纵向掺杂的总目标浓度,并基于总目标浓度得到N个与注入能量值一一对应的注入剂量值,且N个注入剂量值之和的方差最小化;基于注入能量值及注入剂量值形成N组注入条件以控制待注入离子注入至目标薄膜,实现通过N次离子注入在纵向上叠加实现目标薄膜的纵向均匀掺杂。通过本发明解决了现有离子注入方法无法实现纵向均匀掺杂的问题。
公开/授权文献
- CN109727850A 一种利用离子注入实现目标薄膜纵向均匀掺杂的方法 公开/授权日:2019-05-07
IPC分类: