Invention Grant
- Patent Title: 阻气膜、气体阻隔性薄膜、有机电致发光元件和电子纸以及气体阻隔性薄膜的制造方法
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Application No.: CN201811317375.5Application Date: 2018-11-07
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Publication No.: CN109778149BPublication Date: 2020-12-29
- Inventor: 慈幸范洋 , 矶村良幸 , 冲本忠雄
- Applicant: 株式会社神户制钢所
- Applicant Address: 日本兵库县
- Assignee: 株式会社神户制钢所
- Current Assignee: 株式会社神户制钢所
- Current Assignee Address: 日本兵库县
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 吴克鹏
- Priority: 2017-218979 2017.11.14 JP
- Main IPC: C23C16/515
- IPC: C23C16/515 ; C23C16/503 ; C23C16/30 ; C23C16/54 ; H01L51/50 ; H01L51/56
Abstract:
提供一种对于水蒸汽的阻隔性能提高的阻气膜、气体阻隔性薄膜和该气体阻隔性薄膜的制造方法。本发明的一个方式的阻气膜,至少含有氧、硅和碳,在由衰减全反射法得到的光谱中,处于3400cm-1附近由O-H键引起的峰值的强度相对于处于1000cm-1附近由Si-O键引起的峰值强度的比为0.019以下。本发明的另一方式的气体阻隔性薄膜,具备基材、和层叠在该基材的一侧的面上的上述阻气膜。本发明再一方式的气体阻隔性薄膜的制造方法,具备如下工序:使用配置在真空室内、且具备一对成膜辊和气体供给部的成膜装置,将基材卷绕到上述一对成膜辊上的工序;通过等离子体化学气相沉积法使上述阻气膜层叠在上述基材上的工序。
Public/Granted literature
- CN109778149A 阻气膜、气体阻隔性薄膜、有机电致发光元件和电子纸以及气体阻隔性薄膜的制造方法 Public/Granted day:2019-05-21
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IPC分类: