发明授权
- 专利标题: 一种发光二极管的外延片及其制备方法
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申请号: CN201910012389.4申请日: 2019-01-07
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公开(公告)号: CN109786518B公开(公告)日: 2020-09-25
- 发明人: 丁涛 , 周飚 , 胡加辉 , 李鹏
- 申请人: 华灿光电(浙江)有限公司
- 申请人地址: 浙江省金华市义乌市苏溪镇苏福路233号
- 专利权人: 华灿光电(浙江)有限公司
- 当前专利权人: 华灿光电(浙江)有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省金华市义乌市苏溪镇苏福路233号
- 代理机构: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 徐立
- 主分类号: H01L33/02
- IPC分类号: H01L33/02 ; H01L33/32 ; H01L33/00 ; B82Y30/00
摘要:
本发明公开了一种发光二极管的外延片及其制备方法,属于发光二极管制造领域。在石墨烯层上层叠Mg3N2纳米晶层,Mg3N2纳米晶层中的多个Mg3N2纳米晶的表面势能点较低且化学活性较高,可作为GaN形核层的成核点,GaN形核层更容易在Mg3N2纳米晶上生长,保证GaN形核层可在石墨烯层上均匀地形成多个岛状结构。继续生长未掺杂GaN层时,岛状结构会吸引更多的Ga原子与N原子来继续生长。各岛状结构之间的距离合适,原子的迁移与扩散也相对较少,因此减少了岛状结构上的原子在移动扩散过程中导致的晶格畸变与缺陷,提高了未掺杂GaN层的晶体质量。
公开/授权文献
- CN109786518A 一种发光二极管的外延片及其制备方法 公开/授权日:2019-05-21
IPC分类: