Invention Grant
- Patent Title: 对作用于基底上的压力的测量方法
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Application No.: CN201711148498.6Application Date: 2017-11-17
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Publication No.: CN109794855BPublication Date: 2020-09-11
- Inventor: 蔡长益
- Applicant: 长鑫存储技术有限公司
- Applicant Address: 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
- Assignee: 长鑫存储技术有限公司
- Current Assignee: 长鑫存储技术有限公司
- Current Assignee Address: 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
- Agency: 上海思微知识产权代理事务所
- Agent 智云
- Main IPC: B24B49/16
- IPC: B24B49/16 ; B24B37/34 ; B24B37/005 ; H01L21/67
Abstract:
本发明提供一种对作用于基底上的压力的测量方法，提供一基底，在基底上设置一压力感测器以及一信号接收器，采用一压力装置作用于基底上，向基底施加压力，压力感测器感测基底受到的压力并获得相应的压力数据，信号接收器接收压力数据并传输至一终端设备，终端设备根据压力数据得到基底上的压力分布，通过压力分布调整压力装置向基底施加的压力，从而改善向基底施加的压力的均匀度，通过该方法可以改善化学机械研磨的均匀度，并避免由此产生缺陷。
Public/Granted literature
- CN109794855A 对作用于基底上的压力的测量方法 Public/Granted day:2019-05-24
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