Invention Publication
- Patent Title: 半导体装置和半导体装置的制造方法
- Patent Title (English): SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
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Application No.: CN201811443056.9Application Date: 2018-11-29
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Publication No.: CN109841586APublication Date: 2019-06-04
- Inventor: 进藤正典
- Applicant: 拉碧斯半导体株式会社
- Applicant Address: 日本神奈川县横滨市
- Assignee: 拉碧斯半导体株式会社
- Current Assignee: 拉碧斯半导体株式会社
- Current Assignee Address: 日本神奈川县横滨市
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 刘茜璐; 郑冀之
- Priority: 2017-229040 2017.11.29 JP
- Main IPC: H01L23/48
- IPC: H01L23/48 ; H01L23/522 ; H01L23/552

Abstract:
本发明涉及半导体装置和半导体装置的制造方法。提供了抑制电磁噪声向外部的泄露和来自外部的电磁噪声的影响并且半导体基板的翘曲很少的半导体装置。具备:在半导体基板的主面上形成的下层绝缘层、与下层绝缘层的上表面相接地形成的密合层、以及导电构件,该导电构件具有在密合层上层叠的具有第一膜厚的第一导电构件、以及在密合层上与第一导电区域相接地层叠并且具有比第一膜厚薄的第二膜厚的第二导电构件。
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IPC分类: