发明授权
- 专利标题: 每位多单元的非易失性存储器单元
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申请号: CN201810875371.2申请日: 2018-08-03
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公开(公告)号: CN109841629B公开(公告)日: 2020-11-27
- 发明人: 陈志欣 , 赖宗沐 , 王世辰
- 申请人: 力旺电子股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹市
- 专利权人: 力旺电子股份有限公司
- 当前专利权人: 力旺电子股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹市
- 代理机构: 深圳新创友知识产权代理有限公司
- 代理商 江耀纯
- 优先权: 62/590,402 2017.11.24 US
- 主分类号: H01L27/11524
- IPC分类号: H01L27/11524
摘要:
本发明公开了一种每位多单元的NVM单元,其半导体基底,具有被沟槽隔离区域分开的第一、第二和第三OD区域,彼此平行并沿第一方向延伸,第一OD区域位于第二和第三OD区域之间。选择晶体管和字线晶体管设置在第一OD区域上。多个串联的浮置栅极晶体管设置在选择晶体管和字线晶体管之间,并设置在第一OD区域上。各浮置栅极晶体管包括第一浮置栅极延伸部,沿第二方向朝向第二OD区域延伸并与第二OD区域中的擦除栅极区域相邻。各浮置栅极晶体管包括第二浮置栅极延伸部,沿第二方向朝向第三OD区域延伸,电容耦合到第三OD区域中的控制栅极区域。
公开/授权文献
- CN109841629A 每位多单元的非易失性存储器单元 公开/授权日:2019-06-04
IPC分类: