发明授权
- 专利标题: 一种活性隔膜及其制备方法
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申请号: CN201811495723.8申请日: 2018-12-07
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公开(公告)号: CN109860474B公开(公告)日: 2022-04-05
- 发明人: 裴海娟 , 郭瑞 , 李永 , 刘雯 , 王勇 , 方聪聪 , 张亚莉 , 解晶莹
- 申请人: 上海空间电源研究所
- 申请人地址: 上海市闵行区东川路2965号
- 专利权人: 上海空间电源研究所
- 当前专利权人: 上海空间电源研究所
- 当前专利权人地址: 上海市闵行区东川路2965号
- 代理机构: 上海航天局专利中心
- 代理商 余岢
- 主分类号: H01M50/403
- IPC分类号: H01M50/403 ; H01M50/446 ; H01M50/431 ; H01M10/052 ; H01M10/0525
摘要:
一种活性隔膜,该隔膜中包含基膜和可与金属锂反应的活性物质,可与金属锂反应的活性物质分散于基膜中。所述基膜为聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚偏氟乙烯膜、聚偏氟乙烯‑六氟丙烯膜、聚酰亚胺膜、聚酰胺膜、聚四氟乙烯膜、聚丙烯酸酯类膜、聚氯乙烯膜、聚环氧乙烯膜、玻璃纤维膜、纤维素膜中的一种或多种复合膜。所述活性物质活性为I2、S、V2O5、MoO3、MnO2、Bi2O3、Bi2Pb2O5、氟化碳、CuCl2、CuF2、CuO、CuS、FeS、FeS2、Ni2S2、AgCl、Ag2CrO4中的一种或多种。所述基膜的制备方法包括熔融拉伸法、热致相分离法、熔喷法、纺粘法、抄纸工艺、流延法、静电纺丝技术、浸涂法。
公开/授权文献
- CN109860474A 一种活性隔膜及其制备方法 公开/授权日:2019-06-07