发明公开
- 专利标题: 阵列基板及制作方法、显示面板
- 专利标题(英): Array substrate and fabrication method, and display panel
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申请号: CN201910227035.1申请日: 2019-03-25
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公开(公告)号: CN109904176A公开(公告)日: 2019-06-18
- 发明人: 张倩倩 , 刘亮亮 , 彭利满 , 刘祺 , 吴岩 , 张国苹
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京律智知识产权代理有限公司
- 代理商 袁礼君; 阚梓瑄
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L21/77
摘要:
本发明涉及显示技术领域,提出一种阵列基板及制作方法、显示面板,该阵列基板包括用于形成晶体管的有源层和栅极层,阵列基板还包括:绝缘层和电极层。绝缘层设置于所述栅极层的上方;电极层设置于所述绝缘层的上方,包括多个功能区;其中,所述绝缘层位于所述功能区位置具有预设深度的开槽。本公开提供的阵列基板制作方法通过在绝缘层设置开槽的方式能够控制不同功能区与有源层或栅极层之间的电容的大小。
公开/授权文献
- CN109904176B 阵列基板及制作方法、显示面板 公开/授权日:2022-02-08
IPC分类: