发明授权
- 专利标题: 阵列基板及其制作方法、和显示装置
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申请号: CN201910180171.X申请日: 2019-03-11
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公开(公告)号: CN109920801B公开(公告)日: 2022-02-01
- 发明人: 周国庆 , 王超 , 赵生伟 , 吕景萍 , 谢霖 , 常志强
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 许静; 黄灿
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L21/77
摘要:
本发明提供一种阵列基板及其制作方法、和显示装置,其中,所述方法包括:在衬底基板上形成金属层;在金属层上涂覆光刻胶,利用掩膜板对光刻胶进行曝光,使得作用于第一光刻胶部分的光量小于作用于第二光刻胶部分的光量,形成位于走线区域的第一光刻胶保留部分和位于显示区域的第二光刻胶保留部分;刻蚀掉所述金属层中对应光刻胶去除部分的金属部分后,剥离所述第一光刻胶保留部分和所述第二光刻胶保留部分,得到位于走线区域的第一金属图案和位于显示区域的第二金属图案,所述第一金属图案的周期尺寸小于所述第二金属图案的周期尺寸。本发明提供的阵列基板及其制作方法、和显示装置,能够便于显示装置的窄边框化的发展。
公开/授权文献
- CN109920801A 阵列基板及其制作方法、和显示装置 公开/授权日:2019-06-21
IPC分类: