Invention Publication
- Patent Title: 用于pH中和过程的自抗扰控制参数整定方法
- Patent Title (English): Auto disturbance rejection parameter setting method for pH neutralization process
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Application No.: CN201910234851.5Application Date: 2019-03-26
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Publication No.: CN109960149APublication Date: 2019-07-02
- Inventor: 童不凡 , 王家栋 , 阮骁骏
- Applicant: 浙江中控软件技术有限公司
- Applicant Address: 浙江省杭州市滨江区六和路309号中控科技园D区四楼
- Assignee: 浙江中控软件技术有限公司
- Current Assignee: 浙江中控软件技术有限公司
- Current Assignee Address: 浙江省杭州市滨江区六和路309号中控科技园D区四楼
- Agency: 杭州华鼎知识产权代理事务所
- Agent 项军
- Priority: 2018116264582 20181228 CN
- Main IPC: G05B13/04
- IPC: G05B13/04

Abstract:
本发明提供了用于pH中和过程的自抗扰控制参数整定方法,包括建立初始自抗扰控制器结构,得到与初始自抗扰控制器结构对应的闭环传递函数表达式,基于闭环系统快速收敛条件对闭环传递函数表达式进行形式变换,确定待整定参数;逐个对待整定参数进行整定处理,确定每个待整定参数的计算方式;基于电荷及碳化物离子平衡原理建立pH中和模型,实现pH中和过程自抗扰控制,并结合以确定的自抗扰控制器中每个待整定参数的计算方式对pH中和过程自抗扰控制器参数进行调整;通过使用改进后的自抗扰控制器实现pH中和过程的控制,能够在保证系统跟踪性能的同时有较强的鲁棒性和抗干扰能力;相比于其他自抗扰控制器,可以减少了待整定参数数量,优化了整定效率。
Public/Granted literature
- CN109960149B 用于pH中和过程的自抗扰控制参数整定方法 Public/Granted day:2024-04-02
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