发明授权
- 专利标题: 半导体器件及其制造方法
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申请号: CN201811514995.8申请日: 2018-12-12
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公开(公告)号: CN109994473B公开(公告)日: 2021-06-25
- 发明人: 金真雅 , 金容宽 , 朴世根 , 李柱泳 , 高次元 , 李永澈
- 申请人: 三星电子株式会社
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京市立方律师事务所
- 代理商 李娜
- 优先权: 10-2018-0000893 20180103 KR
- 主分类号: H01L27/108
- IPC分类号: H01L27/108 ; H01L21/8242
摘要:
提供了一种半导体器件及其制造方法。所述半导体器件包括衬底、字线、掺杂结、位线结构和埋式接触。所述衬底具有多个有源区。所述字线延伸跨越所述多个有源区。所述掺杂结具有杂质并且被布置在所述多个有源区,并且包括多个第一结和多个第二结,每个第一结被布置在所述多个有源区中的一个有源区的中心部,每个第二结被布置在所述多个有源区中的另一个有源区的端部,每个第二结中包括埋式半导体层。所述位线结构与所述多个第一结中的相应的第一结接触。所述埋式接触被布置成矩阵形状,每个埋式接触与所述多个第二结中的相应的一个第二结以及所包括的埋式半导体层接触,同时与用于存储数据的电荷存储器接触。
公开/授权文献
- CN109994473A 半导体器件及其制造方法 公开/授权日:2019-07-09
IPC分类: