发明授权
- 专利标题： 减少准分子光源中的散斑
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申请号： CN201780083474.9申请日： 2017-12-04
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公开(公告)号： CN110178087B公开(公告)日： 2021-09-17
- 发明人: T·P·达菲 , F·埃弗茨 , B·E·金 , J·J·索内斯 , W·P·E·M·奥普特鲁特 , H·P·戈德弗里德
- 申请人： 西默有限公司 , ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州;
- 专利权人： 西默有限公司,ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： 西默有限公司,ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州;
- 代理机构： 北京市金杜律师事务所
- 代理商 王茂华; 傅远
- 优先权： 15/407,153 20170116 US
- 国际申请： PCT/US2017/064556 2017.12.04
- 国际公布： WO2018/132198 EN 2018.07.19
- 进入国家日期： 2019-07-15
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
一种方法包括：产生由具有深紫外范围中的波长的脉冲构成的光束，每个脉冲具有由第一时间相干长度定义的第一时间相干性，并且每个脉冲由脉冲持续时间定义；对于一个或多个脉冲，在脉冲的脉冲持续时间上调制光学相位以产生具有由第二时间相干长度定义的第二时间相干性的修改的脉冲，该第二时间相干长度小于脉冲的第一时间相干长度；至少从修改的脉冲形成脉冲光束；并且将形成的脉冲光束朝向光刻曝光设备内的衬底引导。
公开/授权文献
- CN110178087A 减少准分子光源中的散斑 公开/授权日：2019-08-27
IPC分类:
