发明授权
- 专利标题: 萧特基二极管
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申请号: CN201810473287.8申请日: 2018-05-17
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公开(公告)号: CN110504326B公开(公告)日: 2022-10-14
- 发明人: 杨承桦 , 林克峰 , 李明宗 , 黄世腾 , 王智充 , 李秋德 , 林淑雯
- 申请人: 联华电子股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹市
- 专利权人: 联华电子股份有限公司
- 当前专利权人: 联华电子股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹市
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 陈小雯
- 主分类号: H01L29/872
- IPC分类号: H01L29/872
摘要:
本发明公开一种萧特基二极管,包含有一萧特基接面、一欧姆接面、一第一绝缘结构以及多个掺杂区。萧特基接面,包含一第一阱位于一基底中,以及一第一电极接触第一阱。欧姆接面,包含一接面区域位于第一阱中,以及一第二电极接触接面区域。第一绝缘结构设置于基底中且将萧特基接面及欧姆接面隔离。多个掺杂区位于第一阱中以及萧特基接面下方,其中此些掺杂区彼此分离且构成一同心圆的俯视轮廓。
公开/授权文献
- CN110504326A 萧特基二极管 公开/授权日:2019-11-26
IPC分类: