本发明公开了一种氟硼吡咯光敏剂及其制备方法和应用。氟硼吡咯光敏剂为具有式(I)所示结构的化合物。其制备方法包括：S1.对羟基苯甲醛与1，6‑二溴己烷发生反应；S2.保护气氛条件下，将具有式(IV)结构的化合物与2，4‑二甲基吡咯发生反应；S3.具有式(III)结构的化合物与I2/HIO3发生碘代反应；S4.具有式(II)所示结构的化合物与2‑噻吩甲醛发生Knoevenagel缩合反应，得到式(I)结构的化合物。该化合物具有在光动力治疗药物上的应用。本发明单线态氧量子产率达到了为78％，其在低功率光源激发下，能够高效敏化空气中的三线态氧原子产生大量单线态氧。其中，式(I)、(II)、(III)和(IV)的化合物结构如下：