发明公开
- 专利标题: 一种熔盐原位电沉积制备钨涂层的方法
- 专利标题(英): Method for preparing tungsten coating through molten salt in-situ electrodeposition
-
申请号: CN201910763473.X申请日: 2019-08-19
-
公开(公告)号: CN110528033A公开(公告)日: 2019-12-03
- 发明人: 席晓丽 , 秦文轩 , 马立文 , 聂祚仁 , 张青华
- 申请人: 北京工业大学
- 申请人地址: 北京市朝阳区平乐园100号
- 专利权人: 北京工业大学
- 当前专利权人: 北京工业大学
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区平乐园100号
- 代理机构: 北京路浩知识产权代理有限公司
- 代理商 商秀玲
- 主分类号: C25D3/66
- IPC分类号: C25D3/66 ; C25D5/00
摘要:
本发明公开了一种熔盐原位电沉积制备钨涂层的方法,在惰性气体保护下,以包含稀有金属氧化物的钨酸盐体系为熔盐电解质,金属钨或钨基合金为辅助电极,导电镀件为工作电极,加热熔融熔盐电解质后保温,原位电沉积,即得;其中,所述稀有金属氧化物为稀土金属氧化物和氧化锆中的一种。本发明通过往钨酸盐体系中添加稀有金属氧化物,使原位电沉积制得的钨涂层结构致密,晶粒更小,结合强度更高,硬度大且耐磨性能更好;与现有技术相比,本发明无需后续加工处理即可制得平整度更佳的钨涂层,且抗热冲击性能更加优异;本发明的方法具有高效、绿色、流程短,产品可控的特点,且其工艺设备简单,操作方便,成本低,实际应用前景广阔。
公开/授权文献
- CN110528033B 一种熔盐原位电沉积制备钨涂层的方法 公开/授权日:2020-11-10