一种熔盐原位电沉积碳化钨/钨复合涂层的方法

    公开(公告)号:CN109208046A

    公开(公告)日:2019-01-15

    申请号:CN201811150464.5

    申请日:2018-09-29

    IPC分类号: C25D3/66 C25D21/12 C25D17/10

    摘要: 本发明公开了一种熔盐原位电沉积碳化钨/钨复合涂层的方法,在惰性气体保护下,以钨酸盐体系为熔盐电解质,碳化钨或碳化钨-钴硬质合金为辅助电极,经磨抛处理后的导电镀件为工作电极,加热熔融后保温,原位电沉积,即得。本发明选用熔盐原位电沉积法制备碳化钨/钨复合涂层,具有高效和制备流程短的特点,同时以钨酸盐体系为熔盐电解质,挥发性低,且能加快辅助电极电化学溶解的速度,利于提高其回收利用率,能对曲面和包含内孔等复杂形状的工件进行处理,同时,其工艺设备简单,操作方便,成本低,污染低,所制备得到复合涂层结构致密,晶粒完整,结合强度高,表面平整,硬度高,耐磨性好,实现了钨涂层性能的提升,理论和实际意义重大。

    一种在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法

    公开(公告)号:CN113106508B

    公开(公告)日:2022-05-10

    申请号:CN202110203981.X

    申请日:2021-02-23

    IPC分类号: C25D3/66

    摘要: 本发明提供一种在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法,所述方法以包含金属化合物和添加剂的钨酸盐体系为熔盐电解质;其中,所述金属化合物为稀土金属化合物和锆化合物中的一种,所述添加剂为偏磷酸盐和/或氟盐。本发明所提供的方法通过向钨酸盐体系中添加特定金属化合物和添加剂,原位电沉积制得钨合金涂层,通过第二相掺杂使钨涂层结构致密,晶粒更小,结合强度更高,硬度大且耐磨性能更好。该方法具有高效、绿色、流程短,产品可控的特点,工艺设备简单,操作方便,成本低,实际应用前景广阔。

    除碳和回收废WC-Co合金中钴和钨的装置和方法

    公开(公告)号:CN110656357B

    公开(公告)日:2020-12-18

    申请号:CN201910778896.9

    申请日:2019-08-22

    摘要: 本发明公开了一种除碳和回收废WC‑Co合金中钴和钨的装置和方法,该装置包括电源组件、高温导电电解槽组件、钴电解回收组件和钨电解回收组件,设置在高温导电电解槽组件空腔内侧的钴电解回收组件包括第一阴极杆和钴绝缘收集槽,第一阴极杆下端与钴绝缘收集槽内侧底部连接且两者之间存在空隙,设置在高温导电电解槽组件空腔内侧的钨电解回收组件包括第二阴极杆和钨绝缘收集器,第二阴极杆下端伸入钨绝缘收集器的内侧,浸入熔盐中的钨绝缘收集器的下半部四周设有流通孔;该方法包括,将钴电解回收组件和钨电解回收组件下部浸入中,将第一阴极杆或第二阴极杆与电源组件的负极电连接,调节电源组件的电流密度,即能回收沉积的钴和钨。

    一种在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法

    公开(公告)号:CN113106508A

    公开(公告)日:2021-07-13

    申请号:CN202110203981.X

    申请日:2021-02-23

    IPC分类号: C25D3/66

    摘要: 本发明提供一种在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法,所述方法以包含金属化合物和添加剂的钨酸盐体系为熔盐电解质;其中,所述金属化合物为稀土金属化合物和锆化合物中的一种,所述添加剂为偏磷酸盐和/或氟盐。本发明所提供的方法通过向钨酸盐体系中添加特定金属化合物和添加剂,原位电沉积制得钨合金涂层,通过第二相掺杂使钨涂层结构致密,晶粒更小,结合强度更高,硬度大且耐磨性能更好。该方法具有高效、绿色、流程短,产品可控的特点,工艺设备简单,操作方便,成本低,实际应用前景广阔。

    除碳和回收废WC-Co合金中钴和钨的装置和方法

    公开(公告)号:CN110656357A

    公开(公告)日:2020-01-07

    申请号:CN201910778896.9

    申请日:2019-08-22

    摘要: 本发明公开了一种除碳和回收废WC-Co合金中钴和钨的装置和方法,该装置包括电源组件、高温导电电解槽组件、钴电解回收组件和钨电解回收组件,设置在高温导电电解槽组件空腔内侧的钴电解回收组件包括第一阴极杆和钴绝缘收集槽,第一阴极杆下端与钴绝缘收集槽内侧底部连接且两者之间存在空隙,设置在高温导电电解槽组件空腔内侧的钨电解回收组件包括第二阴极杆和钨绝缘收集器,第二阴极杆下端伸入钨绝缘收集器的内侧,浸入熔盐中的钨绝缘收集器的下半部四周设有流通孔;该方法包括,将钴电解回收组件和钨电解回收组件下部浸入中,将第一阴极杆或第二阴极杆与电源组件的负极电连接,调节电源组件的电流密度,即能回收沉积的钴和钨。

    一种熔盐原位电沉积制备钨涂层的方法

    公开(公告)号:CN110528033A

    公开(公告)日:2019-12-03

    申请号:CN201910763473.X

    申请日:2019-08-19

    IPC分类号: C25D3/66 C25D5/00

    摘要: 本发明公开了一种熔盐原位电沉积制备钨涂层的方法,在惰性气体保护下,以包含稀有金属氧化物的钨酸盐体系为熔盐电解质,金属钨或钨基合金为辅助电极,导电镀件为工作电极,加热熔融熔盐电解质后保温,原位电沉积,即得;其中,所述稀有金属氧化物为稀土金属氧化物和氧化锆中的一种。本发明通过往钨酸盐体系中添加稀有金属氧化物,使原位电沉积制得的钨涂层结构致密,晶粒更小,结合强度更高,硬度大且耐磨性能更好;与现有技术相比,本发明无需后续加工处理即可制得平整度更佳的钨涂层,且抗热冲击性能更加优异;本发明的方法具有高效、绿色、流程短,产品可控的特点,且其工艺设备简单,操作方便,成本低,实际应用前景广阔。

    一种熔盐原位电沉积制备钨涂层的方法

    公开(公告)号:CN110528033B

    公开(公告)日:2020-11-10

    申请号:CN201910763473.X

    申请日:2019-08-19

    IPC分类号: C25D3/66 C25D5/00

    摘要: 本发明公开了一种熔盐原位电沉积制备钨涂层的方法,在惰性气体保护下,以包含稀有金属氧化物的钨酸盐体系为熔盐电解质,金属钨或钨基合金为辅助电极,导电镀件为工作电极,加热熔融熔盐电解质后保温,原位电沉积,即得;其中,所述稀有金属氧化物为稀土金属氧化物和氧化锆中的一种。本发明通过往钨酸盐体系中添加稀有金属氧化物,使原位电沉积制得的钨涂层结构致密,晶粒更小,结合强度更高,硬度大且耐磨性能更好;与现有技术相比,本发明无需后续加工处理即可制得平整度更佳的钨涂层,且抗热冲击性能更加优异;本发明的方法具有高效、绿色、流程短,产品可控的特点,且其工艺设备简单,操作方便,成本低,实际应用前景广阔。

    一种熔盐原位电沉积碳化钨/钨复合涂层的方法

    公开(公告)号:CN109208046B

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201811150464.5

    申请日:2018-09-29

    IPC分类号: C25D3/66 C25D21/12 C25D17/10

    摘要: 本发明公开了一种熔盐原位电沉积碳化钨/钨复合涂层的方法,在惰性气体保护下,以钨酸盐体系为熔盐电解质,碳化钨或碳化钨‑钴硬质合金为辅助电极,经磨抛处理后的导电镀件为工作电极,加热熔融后保温,原位电沉积,即得。本发明选用熔盐原位电沉积法制备碳化钨/钨复合涂层,具有高效和制备流程短的特点,同时以钨酸盐体系为熔盐电解质,挥发性低,且能加快辅助电极电化学溶解的速度,利于提高其回收利用率,能对曲面和包含内孔等复杂形状的工件进行处理,同时,其工艺设备简单,操作方便,成本低,污染低,所制备得到复合涂层结构致密,晶粒完整,结合强度高,表面平整,硬度高,耐磨性好,实现了钨涂层性能的提升,理论和实际意义重大。