本发明涉及一种用于将通过敷设掩膜(4)而结构化的层沉积在衬底(13)上的装置，其具有校准机构(100、200)，该校准机构用于校准掩膜载体(6)相对于承载框(7)的位置。所述校准机构(100、200)具有校准杆(101、201)，所述校准杆可围绕旋转轴承的旋转轴线(107、207)转动地支承在承载框(7)上并且具有第一臂(102、202)和第二臂(103、203)，其中，所述第二臂(103、203)嵌接在掩膜载体(6)上，并且在所述第一臂(102、202)上嵌接有能由促动器(121、221)竖直移位的控制杆(108、208)。在竖直校准机构(100)中，所述第二臂(103)和所述第一臂(102)沿水平方向延伸，其中，所述第二臂(103)嵌接在与掩膜载体(6)连接的挺杆(110)上。在水平校准机构(200)中，所述第二臂(203)沿竖直方向延伸并且所述第一臂(202)沿水平方向延伸，其中，所述第二臂(203)利用铰接在第二臂上的导杆(210)与掩膜载体(6)连接。