发明公开
- 专利标题: 现场光谱过程监控
- 专利标题(英): IN-SITU SPECTRAL PROCESS MONITORING
-
申请号: CN201911000964.5申请日: 2016-08-05
-
公开(公告)号: CN110702619A公开(公告)日: 2020-01-17
- 发明人: 本杰明·F·卡钦斯 , 马克·K·范贡藤 , 柯蒂斯·R·胡斯卡 , 保拉·史密斯 , 保罗·G·库姆斯
- 申请人: 唯亚威通讯技术有限公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 唯亚威通讯技术有限公司
- 当前专利权人: 唯亚威通讯技术有限公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京安信方达知识产权代理有限公司
- 代理商 张瑞; 杨明钊
- 优先权: 14/819,179 2015.08.05 US
- 主分类号: G01N21/25
- IPC分类号: G01N21/25 ; G01N21/01
摘要:
本申请公开了现场光谱过程监控。如果在制造过程中传感器采用与流动材料一起漂浮的移动探头的形式,而不是仅当过程移动经过传感器固定位置时采样,那么增强过程监控的精确度可被改进。探头包括与流动材料密封隔离的外壳以及用于通过外壳中的窗口将光传送到流动材料上的光源。空间可变光学滤波器(SVF)捕获从流动材料返回的光,并且将捕获的光分为成分波长信号的光谱,以用于传送至探测器阵列,这提供了对于每个成分波长信号的功率读数。
公开/授权文献
- CN110702619B 现场光谱过程监控 公开/授权日:2023-04-21