- 专利标题: 一种压差调控+电磁扰动制备均一金属颗粒的装置
- 专利标题(英): Device for preparing uniform metallic particles through differential pressure control + electromagnetic disturbance
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申请号: CN201911344572.0申请日: 2019-12-23
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公开(公告)号: CN110842209A公开(公告)日: 2020-02-28
- 发明人: 雷永平 , 王同举 , 林健 , 李康立 , 袁涛 , 符寒光
- 申请人: 北京工业大学
- 申请人地址: 北京市朝阳区平乐园100号
- 专利权人: 北京工业大学
- 当前专利权人: 北京工业大学
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区平乐园100号
- 代理机构: 北京思海天达知识产权代理有限公司
- 代理商 张立改
- 主分类号: B22F9/08
- IPC分类号: B22F9/08
摘要:
一种压差调控+电磁扰动制备均一金属颗粒的试验装置,涉及一种射流模式的微喷装置。该装置提供适用于微焊球(如锡及其合金)及其它金属颗粒的高频高质制备。技术方案是:所述装置包括电磁力发生器,压控系统,温控系统和成球系统。该方法属于一种非接触直驱式连续喷射均一金属颗粒制备技术。通过合理匹配压差参数和脉冲电磁扰动参数(电流频率、电流波形、电流的幅值和磁场强度)以实现均一金属颗粒的高频高质制备,该方法简单易行。
公开/授权文献
- CN110842209B 一种压差调控+电磁扰动制备均一金属颗粒的装置 公开/授权日:2022-11-04