- 专利标题: 一种基于SiC MOSFET频率特性的叠层母排杂散参数提取方法
- 专利标题(英): Method for extracting stray parameters of laminated bus bar based on frequency characteristics of SiC MOSFET
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申请号: CN201911119872.9申请日: 2019-11-15
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公开(公告)号: CN110850208A公开(公告)日: 2020-02-28
- 发明人: 胡斯登 , 王明阳 , 雷云 , 何湘宁
- 申请人: 浙江大学
- 申请人地址: 浙江省杭州市西湖区浙大路38号浙江大学玉泉校区
- 专利权人: 浙江大学
- 当前专利权人: 浙江大学
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市西湖区浙大路38号浙江大学玉泉校区
- 代理机构: 杭州万合知识产权代理事务所
- 代理商 丁海华
- 主分类号: G01R31/00
- IPC分类号: G01R31/00 ; G01R31/26 ; G01R31/27
摘要:
本发明公开了一种基于SiC MOSFET频率特性的叠层母排杂散参数提取方法,该方法首先搭建SiC MOSFET双脉冲测试平台,将叠层母排的待测区段外接于测试平台;在SiC MOSFET的两端并联多组额外电容,利用并联额外电容前后SiC MOSFET关断电压波形中震荡的频率信息,得到多组等效电路模型的谐振角频率,进而计算得到叠层母排的杂散电感和寄生电容,实现叠层母排的杂散参数的提取。本发明利用SiC MOSFET的高开关速度特性,以激发明显的关断电压震荡,相比于传统的间接测量法,减少了人为因素带来的测量偏差;此外,本发明能够测量叠层母排中任意区段的杂散电感与寄生电容,测量具有更高的灵活性与全面性。
公开/授权文献
- CN110850208B 一种基于SiC MOSFET频率特性的叠层母排杂散参数提取方法 公开/授权日:2020-08-21