发明公开
CN110854267A 阻变存储器及其制造方法
审中-实审
- 专利标题: 阻变存储器及其制造方法
- 专利标题(英): Resistive random access memory and manufacturing method thereof
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申请号: CN201911255220.8申请日: 2019-12-09
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公开(公告)号: CN110854267A公开(公告)日: 2020-02-28
- 发明人: 官郭沁 , 邹荣 , 田志
- 申请人: 上海华力微电子有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区良腾路6号
- 专利权人: 上海华力微电子有限公司
- 当前专利权人: 上海华力微电子有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区良腾路6号
- 代理机构: 上海思微知识产权代理事务所
- 代理商 曹廷廷
- 主分类号: H01L45/00
- IPC分类号: H01L45/00
摘要:
本发明提供一种阻变存储器及其制造方法,在本发明提供的阻变存储器及其制造方法中,通过在半导体衬底表面形成第一电极,在所述第一电极上形成插层;在所述插层上形成阻变层;在所述阻变层上形成阻挡层以及在所述阻挡层上形成第二电极。所述插层能够与所述阻变层配合形成较好的器件性能,能够通过所述插层调制阻变存储器的初始电阻,从而能够增大所述阻变存储器的存储窗口,由此改善所述阻变存储器的工艺均匀性以及性能。
公开/授权文献
- CN110854267B 阻变存储器及其制造方法 公开/授权日:2023-09-22
IPC分类: