阻变存储器及其制造方法
摘要:
本发明提供一种阻变存储器及其制造方法,在本发明提供的阻变存储器及其制造方法中,通过在半导体衬底表面形成第一电极,在所述第一电极上形成插层;在所述插层上形成阻变层;在所述阻变层上形成阻挡层以及在所述阻挡层上形成第二电极。所述插层能够与所述阻变层配合形成较好的器件性能,能够通过所述插层调制阻变存储器的初始电阻,从而能够增大所述阻变存储器的存储窗口,由此改善所述阻变存储器的工艺均匀性以及性能。
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