发明公开
- 专利标题: 阵列基板及其制备方法和显示装置
-
申请号: CN201911203541.3申请日: 2019-11-29
-
公开(公告)号: CN110911465A公开(公告)日: 2020-03-24
- 发明人: 郭康 , 谷新 , 张笑 , 武捷 , 陈明起
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 姜春咸; 冯建基
- 主分类号: H01L27/32
- IPC分类号: H01L27/32 ; H01L51/56
摘要:
本发明提供一种阵列基板及其制备方法和显示装置。该制备方法包括:先后在背板上形成第一导电结构、中间膜层和第二导电结构,在形成中间膜层之后且在形成第二导电结构之前还包括:在中间膜层上形成整面压印胶,纳米压印压印胶使其表层形成高度不同的纳米压印结构阵列;形成刻蚀阻挡层及其中第一过孔的图形;第一过孔与第一导电结构的位置相对应;以刻蚀阻挡层为掩膜板刻蚀形成贯穿压印胶和中间膜层的第二过孔,以使第一导电结构局部暴露;第二过孔包括开设在压印胶中的第一子过孔和开设在中间膜层中的纳米过孔阵列。该制备方法能够减少或避免出现过孔残留不良,从而确保第二导电结构与第一导电结构实现连接,进而确保阵列基板能正常点亮。
公开/授权文献
- CN110911465B 阵列基板及其制备方法和显示装置 公开/授权日:2022-11-25
IPC分类: