发明授权
- 专利标题: 可提升巨量转移良率的微发光二极管
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申请号: CN201811142993.0申请日: 2018-09-28
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公开(公告)号: CN110970532B公开(公告)日: 2021-10-22
- 发明人: 丁肇诚 , 郭浩中
- 申请人: 丁肇诚
- 申请人地址: 中国台湾新竹市东区田美三街31-1号10楼
- 专利权人: 丁肇诚
- 当前专利权人: 抱朴科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹市东区田美三街31-1号10楼
- 代理机构: 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理商 梁挥; 李岩
- 主分类号: H01L33/06
- IPC分类号: H01L33/06 ; H01L33/32 ; H01L33/44 ; H01S5/028 ; H01S5/183 ; H01S5/30
摘要:
本发明于一微发光二极管的表面覆上一第一保护层与一第二保护层,以完成一种可提升巨量转移良率的微发光二极管。特别地,表面覆有第一保护层与第二保护层的微发光二极管能够表现出较高的外来应力的耐受程度。如此,单一微发光二极管在进行基板转移或多个微发光二极管在进行巨量转移之时,其表层或其它区域便不会因受到外来应力的作用而导致变形、破裂或崩坏。同时,为了避免第一保护层与第二保护层会影响微发光二极管的正常出光,本发明特别令第一保护层的折射率小于第二半导体材料层,并同时令第二保护层的折射率小于第一保护层。
公开/授权文献
- CN110970532A 可提升巨量转移良率的微发光二极管 公开/授权日:2020-04-07